PVD
、非晶硅薄膜沉积设备(PECVD或者Cat-CVD)、TCO膜沉积(PVD或者CVD)、丝印与烧结设备等，目前对应设备投入约4.5亿/GW。 值得注意的是，虽然某些工序/设备名称一样，但是实际区别较大
。 HIT生产线核心设备有望近期实现国产化：HIT的4大工艺步骤制绒清洗、非晶硅薄膜沉积、TCO制备、电极制备，对应的设备分别为清洗制绒设备、CVD设备(PECVD为主、HWCVD较少)、PVD/RPD设备
铸锭炉主要用于生产太阳能光伏电池所需的单晶硅棒，多晶硅锭。 捷佳伟创：国内领先的晶体硅太阳能电池生产设备供应商，主要产品是管式PECVD，罐式高温扩散炉，单多晶制绒设备。 北方华创：泛半导体领域的刻蚀机，PVD,CVD扩散炉等，广泛应用于光伏，半导体
生产后成本有较大的下降空间，预计PVD靶材单耗将在2021年达135mg/pc，2025年降至122mg/pc;低温银浆耗量2021年达160mg/pc，2025年降至100mg/pc。整体来看，预测
100mg，同时可选用价格较低的片状银粉替代球状银粉;(3)靶材：RPD靶材单耗可以做到117mg，目前市场小、成本贵，未来可通过规模效应降本;PVD可以通过设备大型化和靶材结构优化降本，预计2025年靶
主要有PVD和RPD两种，相较于PVD，应用RPD工艺的HJT电池转换效率略高，然而受制于核心部件依赖进口且专利保护严密、靶材供应商少且成本较高、设备来源单一等问题，RPD并没有成为主流。
12月23日
。
除此之外，捷佳伟创还推出二合一设备PAR5500，产品正面采用新型RPD，背面采用PVD，完美整合为一台设备与一套自动化，设备正面入光面TCO采用RPD兼具高穿透的光学特性与优异的电性，背面TCO
%，Kaneka的背接触式异质结电池达26.70%。捷佳伟创自主研发的二合一设备PAR5500，正面采用新型RPD，背面采用PVD，完美整合为一台设备与一套自动化，符合大产量异质结电池的量产，达到每小时5500片的
PVD靶材单耗将在2021年达135mg/pc，2025年降至122mg/pc;低温银浆耗量2021年达160mg/pc，2025年降至100mg/pc。整体来看，预测2021年异质结电池成本将降至0.9
设备，如清洗制绒设备、PECVD 设备、PVD/RPD 设备、丝网印刷设备等，目前捷佳伟创、迈为股份均有布局，相关设备在多条中试线上调试运行。 在组件环节，电池+组件厂商东方日升，其HJT电池在今年
生产设备供应商，主要产品是管式PECVD，罐式高温扩散炉，单多晶制绒设备。 北方华创：泛半导体领域的刻蚀机，PVD,CVD扩散炉等，广泛应用于光伏，半导体
可以获得10%以上的年发电量增益。 上文也提到，国产设备龙头研发顺利，设备环节有望优先受益。 各环节设备投资额占比情况，清洗制绒(10%)、PECVD(50%)、TCO制备-PVD/RPD(25
