PECVD

亿元，毛利率和净利率分别达到40.94%和24.17%。公司预计2018年营业收入区间约为7.2-7.9亿元，归母净利润约为1.6-1.8亿元。。 捷佳伟创 捷佳伟创主营产品涵盖PECVD设备

扩产高峰，也许还将延续到2020年，这对于设备厂商来说，都意味着订单。一家设备厂商高层说到。 据测算，常规PERC产线单GW设备投资额约3.5-4亿，丝网印刷、制膜(设备包括PECVD和ALD

：智能制造系统和工艺开发、PECVD/PVD设备开发、薄片技术和铜丝金属化WEM技术。其中，公司已成功将硅片的厚度从180微米减至130微米，使得硅片的成本降低约30%，保持了成本优势地位。 对于此次被

自动化制绒/刻蚀清洗上/下料机、自动化扩散上/下料机、自动化管式PECVD上/下料机、电池片自动串焊机、组件自动流水线等。报告期内，公司实现营业收12.56亿元，同比增长195.24%。报告期末应收账款

设备：背面钝化处理和激光开槽设备。 背钝化方面，有PECVD和ALD两种技术路线，PECVD的代表厂商是梅耶博格;ALD的代表厂商是国内的江苏微导以及理想能源。PECVD路线的优势是在同一

改造，这个改造比较容易，成本低; 3、 切片、洗片环节。部分切片机无需改造，清洗设备需要更换花篮、夹具等设备，成本不高; 4、 电池环节：清洗篮子、扩散石英舟、PECVD石墨舟、丝印网版等需要更换

解决划痕的具体办法。背面钝化层沉积工序之后，是等离子化学气相沉积(PECVD)工序，在PECVD工序使用的自动化设备是全自动石墨舟上下料机，由我们自主研发设计的该种设备，已经在电池片生产线上实现稳定
生产。由机器人带动真空吸盘一次抓取多张硅片，将PECVD工艺完成后的镀膜片放入下料中转花篮，再传输进100片空花篮中，以备后道丝网印刷工序使用;再将刻蚀工序后的硅片传入上料中转花篮，由机器人抓取后放

PECVD目的 在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。 镀膜原理 光照射在硅片表面时，反射会使光损失约三分之一
。如果在硅表面有一层或多层合适的薄膜，利用薄膜干涉原理，可以使光的反射大为减少，这种膜称为太阳电池的减反射膜(ARC，antireflection coating)。 管式PECVD的原理就是通过脉冲

路线图ITRPV预测主要基于PECVD(等离子增强型化学气相沉积) 技术为基础的单面AlOx钝化技术，也就是AlOx仅仅钝化PERC电池背面。作为行业技术领跑者，东方日升则另辟蹊径，潜心研究行业最看好，但技术难度

(PECVD) 工艺。 而前表 面SiNx ARC也同样是采用管式PECVD 工艺完成的。 在进行激光电极开窗操作之后，采用丝网印刷和共烧结工艺完成金属电极制作。随后对所有完成烧结的多晶硅PERC