PECVD

指出，ALD正逐步取代PECVD成为主流钝化技术，降低了PERC生产成本。 效率衰减一直是单晶PERC电池产品亟待解决的问题，面对高效PERC电池市场的渐激烈竞争，黎微明指出，原子层沉积技术以其优异的钝化
。 他指出，与现有的PECVD背钝化工艺相比，采用微导专利的ALD镀膜技术的PERC电池在抗LeTID方面具有更加优异的性能。ALD和PECVD镀膜技术在降低LeTID衰减中的有着明显不同的表现，根据黎微明

，中国电子科技集团公司第四十八研究所正在进行一项SHJ电池的研制。SHJ电池中，无论是正表面还是背表面都采用了非晶硅薄膜，非晶硅薄膜目前大部分仍采用PECVD设备进行沉积，因此，平板PECVD是SHJ电池制备工艺中的核心装备，目前我们正在开展该设备的研制工作。

，中国电子科技集团公司第四十八研究所正在进行一项SHJ电池的研制。SHJ电池中，无论是正表面还是背表面都采用了非晶硅薄膜，非晶硅薄膜目前大部分仍采用PECVD设备进行沉积，因此，平板PECVD是SHJ电池制备工艺中的核心装备，目前我们正在开展该设备的研制工作。

一体机式镀膜机、罗博特科自动化仪器; 五是PECVD正面沉积氮化硅膜，在该工艺流程中所使用到主要仪器包括CT管式镀膜机、Baumann自动化; 六是背面激光开孔实现背面浆料与硅材料局部接触，该工艺
接触、导条接触、花篮接触、人员接触、粉尘污染等; PECVD工序:吸盘接触、皮带接触、导条接触、花篮接触、舟片接触、人员接触、粉尘污染等; 激光开孔工序:吸盘接触、皮带接触、导条接触、花篮接触

。 工艺：核心工艺与PERC完全不同 异质结电池四步核心工艺为清洗制绒、非晶硅薄膜沉积、导电膜沉积、印刷电极与烧结。与PERC工艺的区别在于：1)非晶硅薄膜沉积环节，使用PECVD或RPD沉积本征

PECVD)设备需要在密封的管道中进行生产。当前在运和在建的PERC产线均基于传统单晶硅片尺寸进行设计，行业反馈所能处理的硅片边长极限为166 毫米。如果上游硅片升级为210 毫米，电池厂商只能投建全新产线

。 电池端：电池厂商跟进迅速 据中信建投证券研究发展部电力设备与新能源首席分析师王革介绍，在电池生产工艺中，扩散炉、PECVD、烧结炉等管式加热或真空设备尺寸难以调整，是硅片加大尺寸的瓶颈环节，其中
扩散炉的内径最为关键，目前来说M6对于内径290 mm的扩散炉来说尚可行，在石英舟方面其尺寸经过合理设计一般可以满足M6硅片进出炉体的要求，对于内径450 mm的PECVD来说也无障碍。总的来说

。 电池端：电池厂商跟进迅速 据中信建投证券研究发展部电力设备与新能源首席分析师王革介绍，在电池生产工艺中，扩散炉、PECVD、烧结炉等管式加热或真空设备尺寸难以调整，是硅片加大尺寸的瓶颈环节，其中
扩散炉的内径最为关键，目前来说M6对于内径290 mm的扩散炉来说尚可行，在石英舟方面其尺寸经过合理设计一般可以满足M6硅片进出炉体的要求，对于内径450 mm的PECVD来说也无障碍。总的来说

。 工艺：核心工艺与PERC完全不同 异质结电池四步核心工艺为清洗制绒、非晶硅薄膜沉积、导电膜沉积、印刷电极与烧结。与PERC工艺的区别在于：1)非晶硅薄膜沉积环节，使用PECVD或RPD沉积本征

捷佳伟创是全球光伏电池片设备供应商龙头，研发实力及技术水平行业领先。公司核心产品为光伏电池产线核心设备，包括制绒设备、刻蚀与抛光设备、PECVD、扩散炉、自动化设备，其中制绒、刻蚀抛光、扩散环节
有限公司成功实现业务整合，并于2018年8月成功上市。公司目前主要业务集中在光伏电池片设备领域，产品包括干法类设备(扩散炉、PECVD设备)、湿法类设备(绒清洗设备、刻蚀设备)以及自动化设备五大类。同时