,会因为跟花篮托齿摩擦造成划痕;硅片在传输过程中,会因为卡片、碎片等造成划痕。第二,后道工序自动化设备对Al2O3钝化层造成的划痕。本文将从第二方面分析造成Al2O3钝化层划痕的几大因素,并通过试验找出
解决划痕的具体办法。背面钝化层沉积工序之后,是等离子化学气相沉积(PECVD)工序,在PECVD工序使用的自动化设备是全自动石墨舟上下料机,由我们自主研发设计的该种设备,已经在电池片生产线上实现稳定
PECVD目的
在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜,以增加入射在硅片上的光的透射,减少反射,氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。
镀膜原理
光照射在硅片表面时,反射会使光损失约三分之一
射频激发受热的稀薄气体进行辉光放电形成等离子体,通过两片相对应的石墨片加相反的交变电压使等离子在极板间加速撞击气体,运动到硅片表面完成镀膜过程。
三、镀膜的相关介绍
1、机台照片与工作
钢化玻璃自爆炸裂;
(3)镀膜玻璃脱膜,造成建筑美感丧失;
(4)玻璃松动、开裂、破损等。
3.组件定期测试
测试内容:绝缘电阻、绝缘强度、组件IV特性、组件热特性。
4.阵列定期检查及维修
。
测试内容:机械强度测试
测试方法:对光伏阵列支架及光伏组件边框的最不利位置的最不利方向施加250N的力维持10秒,连续5次测试后阵列不能出现松动、永久变形、开裂或其它形式的损坏。
主要设备检测维修
镀膜技术让材料直接长在玻璃上,则可大大降低了生产成本。同时,叠加自发自用、余电上网、就近高效利用分布式发电模式,有效避免了地面电站占地大、储能设备造价高的问题。在幕墙底部和顶部设计通风百叶及空腔取热
的主要因素及优化方法
影响PR值得主要因素包括12点,如下图和表:
1、IAM入射角损失
IAM入射角的损失主要由于反射引起,从右图可知透光率相对是降低的,蓝线代表镀膜玻璃,镀膜本身可以
。
技术服务涵盖光伏组件、光伏线缆、光伏材料、光伏电子系统设备及光伏电站的测试、认证、评估与培训。
作为最早开始从事光伏电站检测的外资第三方机构,2012年颁发全球首张光伏电站TV认证证书
结的专用设备为管式扩散炉。管式扩散炉主要由石英舟、废气室、炉体和气柜等部分构成。工业生产一般使用三氯氧磷液态源作为扩散源。把P型硅片放入扩散炉的石英容器内,使用小股的氮气携三氯氧磷进入石英容器,在高温
的均匀性,为晶硅太阳电池效率进一步提升奠定了基础。由于扩散方阻均匀性的提高,装片石英舟槽间距设计可降为标准值的一半左右,这样可以在设备体积不变的情况下将产能提高1倍。此外,低压扩散过程中化学品的利用
光伏电池产品,光伏建筑一体化方案:发电墙、汉瓦、发电玻璃,薄膜发电产品,Solibro的CIGS薄膜发电技术,CIGS共蒸发技术,小尺寸组件的转换效率:1cm2电池转换效率达到21.0%,硅基薄膜生产设备
以及流程,柔性光伏组件,透明导电氧化玻璃(TCO,掺杂或本证氧化锌膜层)镀膜工艺。PECVD,PVD和低压化学气相沉积(LPCVD)系统,薄膜发电光伏产品的应用平台,开发和研究薄膜太阳能电池、组件及
技术,CIGS共蒸发技术,小尺寸组件的转换效率:1cm2电池转换效率达到21.0%,硅基薄膜生产设备以及流程,柔性光伏组件,透明导电氧化玻璃(TCO,掺杂或本证氧化锌膜层)镀膜工艺。PECVD,PVD和低压
技术光伏组件生产项目落地,光伏核心设备制造研发,同时在能源互联网领域发力。
协鑫集成
在光伏电池和组件产品坚持多晶与单晶技术路线并举,提供满足客户需求的高效定制化产品,其中多晶黑硅PERC电池量产
新能源(镀膜设备)、凯世通(等离子注入机)和申科(组件设备)等公司。
《十三五能源规划》中也强调,要推动高效晶硅电池开发,加快染料敏化电池、柔性薄膜电池及组件的示范应用和产业化。尤其要进一步加
, 10-19)。
同时,上海地区在微电子设备方面有着很好的基础,为电池组件新技术装备的研发提供了条件,主要的设备企业有上海森松(多晶硅还原炉设备)、汉虹(多晶铸锭炉与多晶炉)、日进机床(硅锭加工设备)、理想
Al2O3厚度对电池特性的影响
采用梅耶博格公司的玛雅2.1设备来制备Al2O3/SixNy薄膜与背面保护氮化硅薄膜,高频信号发生器频率为13.56GHz。所用气体为三甲基铝(TMA)、高纯氩气、高纯氨气
和高纯硅烷,实验时反应气体直接通入反应腔体内,反应腔体压力为10~30Pa,反应温度为300~400℃。正面氮化硅使用中国电子科技集团公司第四十八研究所PECVD设备制备,高频信号发生器频率为