等离子体

工艺技术项目，涉及低成本太阳能电池中所用的一种新型纳米表面工艺技术，包括用于提高电池光捕获效率的新型纳米防反光涂层（ARC）。项目还将开发新型等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺，用于生产低成本

稳定性、正常生产时间增加和线轴更换较少意味着在PlasmaPREPLATE镀锡生产线中材料使用较少及涉及的操作人员较少； ● 用等离子体制备干的表面替代了传统工艺中采用的酸洗、冲洗、干燥、浸助焊剂

等离子体可能会毁灭我们的电网，进而造成灾难性的后果。科学家警告认为，2012年的强太阳风暴将给地球人类带来巨大的灾难，它的影响力将渗透到现代社会的每一个方面。在发出警告的专家看来，太阳风暴给地球的影响
；磁化等离子体云，也就是磁暴，对地球磁层的撞击不仅导致地球辐射带电子密度增加，使卫星充电，而且会产生强大的感生电流，对供电系统造成影响，导致停电。比如，1859年的卡林顿事件使刚刚形成的电报网络出现

解散同夏普的薄膜合资公司2008年东京电子（TEL）和夏普公司建立的一个开发用于太阳能光伏电池薄膜硅的等离子体化学气相沉积系统的小合资公司宣布解散。TEL指：该合资企业，东京电子光伏部门计划运行5年

/Wp，为该行业的组件生产成本创造了全球最低的新标准，同时这种薄膜硅技术和其它光伏技术相比有明显的环保优势。这种先进性得益于各种创新技术，例如用于非晶和微晶硅吸收层最优化的等离子体增强化学气相沉积技术

16、 工作气压对反应等离子体沉积ITO薄膜性能的影响 -----------------------------------中国科学院上海微系统与信息技术研究所 石建华 17、聚光光斑均匀
- --------------------------------------------上海太阳能电池研究与发展中心 赵守仁 16、 工作气压对反应等离子体沉积ITO薄膜性能的影响

世界领先水平。 夏洋研究团队原创性提出利用等离子体浸没离子注入技术，在商用多晶硅（156156mm2）衬底上制备黑硅材料，并将其成功应用于太阳能电池领域。该方法通过离子注入反应，形成致密的纳米结构，起到

水平区熔单向凝固成硅锭，去除硅锭的外表部分和金属杂质聚集的部分后，将硅锭粗粉碎并清洗，并在等离子体熔解炉中去除硼杂质，然后二次区熔单向凝固成硅锭，再次除去外表部分和金属杂质聚集的部分然后粗粉碎和清洗

，由此宣布了其开始进入用于晶体硅太阳能电池生产的真空镀膜系统市场。据Manz公司称，VCS 1200等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统可以给垂直放置的硅片正反两面镀膜，其每小时可以完成1200片
硅片的镀膜工作。钝化过程可以通过PECVD完成。该系统也可以集成到现有的生产线中。VCS 1200可以在硅氮化物和氧化铝层创造出最优的层特性。此外，系统可以通过高性能的等离子体源（专利申请中）来缩减

。这是一项行业生产电池组件的最低成本。这是通过各项创新做到成本最低的。创新包括：优化工具、非晶体硅、多晶硅吸收层等离子体化学气相沉积、使用环境高度环保F2更高效的清洁KAI反应器。只需要释放更少量的