激光工艺

公司的PECVD（等离子加强化学气相沉积）和ATON PVD（物理气相沉积）系统、激光设备以及工厂自动化软件等全系列能代表应用材料公司SunFab大规模太阳能面板制造薄膜生产线的设备。SunFab
技术中心将成为应用材料公司主要的太阳能研发中心，专注于提高模块的转换效率并降低生产成本。此外，该中心将为客户提供关键系统和工艺的评估和测试，提高区域内现有的晶体硅和薄膜太阳能电池的制造能力。应用材料公司

的革命性混合切割工艺，通过如发丝般纤细的水射流将激光束引导到晶圆上。利用空气和水的折射率之间的区别，Laser MicroJet之激光束可以在空气-水的界面全反射，原理类似光纤。由于在工件上和工件之外

的难度，使成本升高。　　80年代中期，为解决这些问题，高效电池的制作引入了电子器件制作的一些工艺手段，采用了倒金子塔绒面、激光刻槽埋栅、选择性发射结等制作工艺，这些工艺的采用不但使电池的效率进一步提高

。 在人类社会生产和生活中，因工艺或环境保护的需要，或为方便输送、使用和提高劳动 生产率等原因，常有必要对一次能源进行加工或转换使之成为二次能源。随着科学技术的进

到400cm2/v.s，是目前综合性能最好的低温多晶硅薄膜。工艺成熟度高，已有大型的生产线设备，但它也有自身的缺点，晶粒尺寸对激光功率敏感，大面积均匀性较差。重复性差、设备成本高，维护复杂。 快速热退火
多晶硅薄膜材料同时具有单晶硅材料的高迁移率及非晶硅材料的可大面积、低成本制备的优点。因此，对于多晶硅薄膜材料的研究越来越引起人们的关注，多晶硅薄膜的制备工艺可分为两大类：一类是高温工艺，制备过程中

流程图 1．　集成技术 集成工艺对组件的转换效率具有决定性的影响。实现集成的刻划技术有机械刻划、激光刻划两种。机械刻划的刻划速度比激光

美国电力公司计划建两座100MW的电站。为了提高塔式电站的效率，有人提出了一种新想法， 把带有太阳能塔的定日镜阵列附加到先进联合循环电站上作为燃料节省装置，采用甲烷重整工艺，以太阳能提高天然气等级
? 当前影响光电池大规模应用的主要障碍是它的制造成本太高。在众多发电技术中，太阳能光电仍是花费最高的一种形式，因此，发展阳光发电技术的主要目标是通过改进现有的制造工艺，设计新的电池结构，开发新颖电池材料等

是制备电池的工艺和方法，但无论是哪一方面的研究都应满足制备多晶硅薄膜电池的一些基本要求： （１）低成本 （材料和工艺） （２）高效率 （３）易于产业化 对于衬底的选择必须满足以下一些条件
目前，制备多晶硅薄膜的工艺方法主要有以下几种： （１）化学气相乘积法（ＣＶＤ法） （２）等离子体增强化学气相沉积法（ＰＥＣＶＤ法） （３）液相外延法（ＬＰＥ） （４）等离子体溅射沉积法

满足光伏工业发展的需要。同时硅材料正是构成晶体硅太阳电池组件成本中很难降低的部分，因此为了适应太阳电池高效率、低成本、大规模生产化发展的要求，最有效的办法是不采用由硅原料、硅锭、硅片到太阳电池的工艺
路线，而采用直接由原材料到太阳电他的工艺路线，即发展薄膜太阳电他的技术。 20世纪70年代开始，发展了许多制作薄膜太阳电他的新材料、CulnSe2、CdTe薄膜，晶体硅薄膜和有机半导体薄膜等

一CFO模型和迁移边的思想。 电子能带理论是半导体材料和器件的理论基础。它可以指导半导体器件的设计和工艺，分析材料和器件的性能。尽管目前非晶硅能带理论还不很完善，也存在争议，但毕竟为非晶半导体
的确立又指导应用技术走向成熟。2．非晶硅太阳电他的初期发展2．1．初期的技术进步和繁荣 半导体巨型电子器件——太阳电池可用廉价的非晶硅材料和工艺制作，这就激发了科研人员、研究单位纷纷投入到这个