湿法

黑森林古藤巴赫(Gtenbach)，成立于1993年，现有员工1454人。目标市场定位于太阳能光伏技术，半导体技术，医药技术和电路板技术。作为全球湿法化学腐蚀技术的最大供应商之一，RENA的目标是用
开创性的解决方案来满足客户在此新兴领域中的需求，致力于成为湿法化学领域链式和槽式太阳能电池片工艺的世界市场主导者。RENA致力于改进行业世界标准，在光电、半导体工业、电镀及医疗技术领域等都是一个广受好评的

由普罗公司自行研发的PM法太阳级多晶硅提纯技术，采用炉外精炼、湿法冶金、DVC真空等三个步骤，以纯度为2~3N的金属硅作为原料，得到纯度6.3~6.7N的太阳能级多晶硅。该工艺的单位能耗仅为12度电

索比光伏网讯:由普罗公司自行研发的PM法太阳级多晶硅提纯技术，采用炉外精炼、湿法冶金、DVC真空等三个步骤，以纯度为2~3N的金属硅作为原料，得到纯度6.3~6.7N的太阳能级多晶硅。该工艺的单位

使用可以取得最好的效果。生产这种结构的太阳能电池，其核心工艺包括：无接触喷墨印刷、湿法化学工艺和电镀技术。 上市时间 2013年第一季度

选择性放射器（嵌入式选择性放射器技术（InSecT））和大约40m宽的接触片（无接触高效金属喷镀技术（HiMeT））的电池的过程中实现最佳的结果。这种电池制造技术的关键性工序是：无接触墨喷式印刷；湿法

湿法化学腐蚀法,目前最常用的是激光钻孔。孔内进行重磷扩散以降低接触电阻及接触复合。电池背面是间隔排列的p型电极凹槽和n型电极凹槽。分别在n型电极凹槽和p型电极凹槽内进行磷硼扩散以降低接触复合

自动装卸、花篮自动装卸和自动倒篮 ，以及链式湿法设备 自动 上下料， 还将硅片碎片率 下降低于 0.1% ，电池 制造可 节省 50% 以上的生产人员 。 该产品的推出为光 伏制造 企业降低生产成本

刻蚀剂，与硅反应后生成具有挥发性的SiF4，后面还将详细介绍。5.1.2刻蚀技术的分类及特点刻蚀是采用化学或物理的方法，有选择地从半导体材料表面去除不需要材料的过程。通常刻蚀技术分为湿法腐蚀和干法刻蚀
两种。1.湿法腐蚀湿法腐蚀是通过化学溶液与被刻蚀材料发生化学反应而去除被刻蚀物质的方法。湿法刻蚀的特点是各向同性，但会因存在侧向腐蚀而产生底切现象，从而导致线宽失真，特别是微细线条的刻蚀更为困难，因此

工艺非常简单，第一步就是这个硅片要拿来清洗制绒，第二个就是一步的高温扩散，大家都是用P型电池，非常容易，而且现在这种扩散设备越来越好。第二个，大部分用湿法隔离，正面PSG的去除，还有背面抛光都是一次