湿法

——黑硅技术不仅解决了金刚线切多晶硅片的反射率过高问题，还能附带一定电池效率的提升。保利协鑫自主研发的“湿法黑硅”解决了电池应用上的技术难题，光电转换效率可提升0.3-0.4个百分点以上，未来可进一步提升
0.4-0.5个百分点。目前月产能在7000万片以上，且产品供不应求。可以预期的是，金刚线切多晶+湿法黑硅+PERC多晶电池的技术组合，将更好发挥背钝化的提效作用，将构成多晶差异化竞争力的核心

，近期利润都较为紧缩的电池片也已经止跌。 尤其多晶电池部份，近期组件厂需求提升至18.6%以上、甚至也有部分订单要求需要达到18.7%，在专业电池片厂家大多未大幅导入湿法黑硅制绒的情况下，转换效率

较为紧缩的电池片已经止跌。 尤其多晶电池部份，近期组件厂需求提升至18.6%以上、甚至也有部分订单要求需要达到18.7%，在专业电池片厂家大多未大幅导入湿法黑硅制绒的情况下，转换效率18.7%以下的

、东方日升、无锡尚德、比亚迪、苏美达等公司。黑硅技术的成熟技术路线主要有干法(RIE)黑硅和湿法(MCCE)黑硅两种。两种技术对硅片表面不良尤其是线痕都有很好的处理，且提效非常明显，干法黑硅可提升效率
0.4%~0.7%，湿法黑硅有0.3%~0.5%的效率增益，但干法黑硅的投资成本相对湿法较高。 2月28日举行的日本国际太阳能光伏展览会(PV EXPO)上，协鑫集成携4款黑硅PERC组件亮相

继续进步的必由之路。这种降本增效的方案已被大多数多晶电池的制造厂商认可。 目前，黑硅技术的成熟技术路线主要有干法(RIE)黑硅和湿法(MCCE)黑硅两种。两种技术对硅片表面不良尤其是线痕都有很好的
处理，且提效非常明显，干法黑硅可提升效率0.4%~0.7%，湿法黑硅有0.3%~0.5%的效率增益，但干法黑硅的投资成本相对湿法较高。两种技术路线对比如下表所示。 从目前金刚线切多晶和湿法

持续让组件价格仍将不断下跌、连带使电池片全年价格趋势亦不乐观。 目前常规多晶仍占据各电池片厂家不小的产能比重，如何继续提效符合组件厂需求、是否需导入湿法黑硅目前仍未见定论。在多晶电池片提效、降本空间

海德表示，因为异质结电池目前的发展非常快，所以针对这种情况，贺利氏推出一款专门针对低温的新产品SOL580。在半年前，大量的多晶厂商都转向了生产金刚线切割硅片。而金刚线切割硅片的表面处理分为干法、湿法
两种刻蚀工艺，这个生产过程需要很多新浆料来适应。在过去的半年贺利氏做了很多的努力，实现了技术上的突破。到目前为止，不管厂商用干法工艺还是湿法工艺，贺利氏都可以提供让他们满意的浆料，这个任务在去年Q4