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国内首台12英寸硅片清洗设备亮相工博会来源:SEMI 发布时间:2008-11-06 10:06:17

    国内首台适用于65纳米技术节点的12英寸单片晶圆清洗设备Ultra C日前在上海工博会首次亮相,从而填补了国内半

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BakerClean PV-160是一款化学湿法太阳能电池表面清洗剂,主要用于多晶硅太阳能电池制造的ECN-清洗流程。在ECN-清洗流程中,采用这