://www.appliedmaterials.com/products/maxedge_3.html 应用材料公司已经通过生产验证的超薄晶体硅太阳能电池制造系列产品包括用于切片的MaxEdge系统,用于防反射和钝化层沉积的Applied ATON
技术。设备主要依赖进口。丝网印刷工艺主要分正面和背面金属化工艺。其中正面栅状电极的设计思路主要从有效收集电流、减小遮光面积以及组件焊接方便来考虑;背面金属化的目标是在背面形成一层铝背场钝化层来提高开路
的硅晶圆上制作出30-50μm厚度的硅箔。 以这种硅箔一步加工成为1cm2的太阳能电池,即使无背面的钝化,或是刻意的表面处理,也能得到10%转换效率。IMEC表示,如果进行适当的表面处理,应可实现更高的转换效率。IMEC制成的太阳能电池用硅箔将硅箔与金属薄膜剥离时的仿真图像
℃~450℃的热处理。该工艺同时也促进CdS/CdTe的界面扩散,减少界面的格子失配程度和钝化了薄膜的晶界势垒。但该工艺在碲化镉膜面形成了一高阻氧化层,可以用化学腐蚀或离子刻蚀去除CdTe膜面的高阻
图3 碲化镉薄膜太阳能电池组件集成结构示意图
图4 碲化镉薄膜太阳能电池组件制备工艺流程
进行HCI腐蚀处理。 为制备多晶硅薄膜太阳龟池,在激活层表面进行腐蚀形成绒面织构,并在其上进行n-型杂质扩散形成p-n结,然后进行表面钝化处理和沉积减反射层,并制备上电极,进行背面腐蚀和氢化