减反膜

结电池片的材料，然后在外延片上利用光刻、PECVD、蒸镀等技术，制备减反膜以及主要成份为银的金属电极，再经划片清洗等工艺，生产出HCPV芯片。HCPV芯片的主要生产商有美国的Spectrolab

就越高。典型的例子就是SiN：H减反膜以及倒金字塔结构，一块电池如果不采用这两种工艺，效率差别会很大(大概8%左右)。实际生产中典型的工艺有：尚德的Pluto，晶澳的Maple，英利的熊猫等等。经过

等技术，制备减反膜以及主要成份为银的金属电极，再经划片清洗等工艺，生产出HCPV芯片。HCPV芯片的主要生产商有美国的 Spectrolab、Emcore，德国的Azurspace，加拿大Cyrium

时间问题。金晶科技：鉴于2010年超白玻璃良好的销售情况，公司2011年可能将本部一条玻璃线进行技改以生产超白玻璃。另外，为提高产品档次，公司正在研究超白玻璃减反膜，目前已进入中试阶段。未来超白玻璃

尚德电力控股有限公司向SEMI标准委员会提出一项新的标准制定活动范围申请，提出为用于光伏晶体硅组件的减反射镀膜玻璃制定规范。该项申请在2011年第五届光伏制造论坛（5th PV Fab
Managers Forum）期间获得SEMI标准技术委员会审核通过。 　 随着光伏产业的快速发展，出现了一系列的新材料、新工艺和新方案，减反射镀膜玻璃就是其中一种。其特点在于，通过对玻璃表面进行工艺处理

系统，等离子减反喷涂技术等，均是国内乃至国际领先的先进技术，使得产品牢牢把握了市场主动权。 “通过以上技术创新，使集热管生产效率大为提高，生产成本降低0．66元／支，竞争力显著增强，市场占有率提高至
，得出了集热管膜层的表面微粒结构、化合物成分和光学性能之间的关系。对四层金属－介质膜层进行优化设置，使不同金属含量膜层界面间产生最大消光干涉，膜层性能指标可以达到吸收比αs＝0．96、发射比εh

的M1S电池正面有20一40μm的SiO2膜，在膜上真空蒸发金属栅线，整个表面再沉积SiN薄膜。SiN薄膜的作用是：①保护电池，增加耐候性；②作为减反射层（ARC）；降低薄膜复合速度：①在p-型半导体

正面有20一40μm的SiO2膜，在膜上真空蒸发金属栅线，整个表面再沉积SiN薄膜。SiN薄膜的作用是：①保护电池，增加耐候性；②作为减反射层（ARC）；降低薄膜复合速度：①在p-型半导体一侧产生一个n