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)，中环股份，上机数控，京运通。还有设备商生产商，晶盛电机，北方华创，连城数控等。第三大环节，电池片制造。传统电池环节工艺分为制绒-扩散-刻蚀-正面镀膜-背面镀膜-激光刻槽-印刷-烧结(这里要注意新的
异质结工艺中扩散-刻蚀-镀膜-激光刻槽都没有了，制绒印制烧结还保留，电池结构更简单)，这个环节主要公司有爱旭股份，东方日升，通威等。另外细分环节中捷佳伟创主要做镀膜，迈为股份主要做印刷(用于制做电极

超高生产效率，推出了适用金刚线大产能的插片机; ◆ 把业内产能从5000片提升至8000片的湿法制绒设备，在越南光伏创下了单班10万片的业内记录; ◆ 将湿法刻蚀中的机械手改为链式无往复过程的机关枪
设计 ◆ 从前端插片、清洗、制绒刻蚀环节作为一个整体设计，迫使下端设备厂商随之升级如同当年破釜沉舟从川大转战上海一样，在光伏路上，入行20年的王相军从来不缺少自我革命的勇气。釜川机关枪：产能

上进行P型掺杂。常见的定域掺杂的方法包括掩膜法，可以通过光刻的方法在掩膜上形成需要的图形，这种方法的成本高，不适合大规模生产。相对低成本的方法有通过丝网印刷刻蚀浆料或者阻挡型浆料来刻蚀或者挡住
不需要刻蚀的部分掩膜，从而形成需要的图形。这种方法需要两步单独的扩散过程来分别形成P型区和N型区。另外，还可以直接在掩膜中掺入所需要掺杂的杂质源(硼或磷源)，一般可以通过化学气相沉积的方法来形成掺杂的掩膜

覆盖一层氮化硅膜作为保护层。为使背面金属电极与硅形成良好的欧姆接触，需要对钝化层进行刻蚀，目前主流工艺采用激光开槽的方式来完成这一工序。 PERC 技术日趋成熟
，TOPCon 电池生产工艺的改变主要在于：增加了隧穿氧化物沉积、多晶硅沉积、硼扩工序，同时需增加湿法刻蚀步骤来应对非晶硅的绕镀问题。理论上，TOPCon 技术仅需在现有产线基础上增加薄膜沉积设备

企业，并多次荣获当地政府的和谐企业、优秀企业等荣誉。公司主要产品有插片清洗一体机、单晶制绒清洗机、制绒自动上下料机、链式湿法刻蚀清洗机、刻蚀自动上下料机等。公司具有多年的清洗设备研发、生产经验

行业内口碑，充分听取各领域专家、学者意见，并广泛调研行业上下游反馈。获奖企业介绍江苏微导纳米科技股份有限公司是一家面向全球的高端设备制造商，专注于先进薄膜沉积和刻蚀装备的开发、设计、生产和服务
。微导的业务涵盖新能源、柔性电子、半导体和纳米技术等工业领域。微导总部设在江苏无锡，由精英企业家和技术专家团队共同创立。微导的核心技术是先进的原子层沉积(ALD)和反应离子刻蚀(RIE)装备

分别为7.2%，5.9%，5.0%。捷佳伟创公司主营业务为PECVD设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、自动化配套设备等太阳能电池片生产工艺流程中的主要设备的研发、制造和销售。截至2020年03月11日，该公司股东人数(户)为15583，较上个统计日减少3512户。(完)

黑硅PERC 多晶太阳电池采用背抛光工艺，其背面刻蚀深度在4.00.2 m，在800～1050 nm的光学波长范围内，其反射率较常规刻蚀制备的黑硅多晶太阳电池提升了10% 左右;采用氧化铝及氮化硅
Sigma 300 SEM 场发射扫描电镜、I-V 测试设备Berger PSS10。 1.2 制备流程采用氧化铝浆料制备黑硅PERC 多晶太阳电池的工艺流程为：①黑硅制绒②扩散③刻蚀去PSG ④背面

) 化学回蚀清洗技术采用缓冲型化学回蚀体系，反应速度精确可控，同时化学回蚀溶液具有差异化刻蚀功能，可有效保持重掺杂和轻掺杂区域的方阻梯度; 4) 异质膜钝化减反技术电池正表面减反膜采用多层介质
perc+se 产线兼容，现有产线可升级改造至 TopCon产能。TopCon 生产流程分为 9 步，分别为硅片制绒清洗、扩散制结、湿法刻蚀、隧道结制备、离子注入、退火和湿化学清洗、ALD 沉积氧化铝

具双重提升可能在国内设备公司产品相对有限的背景下,公司现有核心半导体前道设备已涵盖,物理气相沉积、刻蚀、清洗和立式炉等(占据八大类设备品类中的4种),且均在国内处于前两位位置,覆盖相对全面;伴随
实力持续提升,全球领先半导体设备公司的估值整体呈现出上升趋势。公司作为半导体设备龙头,近期刻蚀设备再获突破且处于快速成长阶段,我们给予公司10倍PS,对应2020年总市值由581.3亿元上调至624亿元