Rau
。薄膜设备厂商如欧琳克、应用材料AM的薄膜设备价格很高，技术也不是很好，金融危机后让许多公司包含尚德在内大受损失，2010年应用材料更是不得不退出此块市场，2011年Roth&Rau也宣布将碲化镉设备
光伏组件。此外，德国光伏设备公司Roth&Rau(后被梅耶博格收购)以及法国国家太阳能研究所(CEA/INES)也投入HJT电池的研发。 ►工艺生产阶段(2010~2017年)：随着2010年松下(收购
上实现。因此，它可以使用现有的基础设施。 当前尚未确定梅耶博格光伏工厂的确切位置，但漂浮式太阳能项目得到了Forschungszentrum Juelich研究中心能源与气候研究所所长Uwe Rau的支持。 他认为该计划绝对可行。
& Rau SiNA XXL 平板式镀膜设备制备厚度为84～88 nm 的正面氮化硅膜和厚度为130～140 nm 的背面氮化硅膜，折射率范围为2.08～2.10，背面氮化硅膜较厚是因为需要避免铝浆中的
，史陶比尔的全球销售 Rau表示，即使没有强有力的激励措施，即使分布式光伏政策有所变化， 越来越多的分布式光伏需求，相信分布式的未来并不取决于政策，无需担忧分布式的前景。Rau称。 巴西最大的光伏系统
。 激光涂源掺杂电镀法 此为Roth&Rau的turnkey制备方案，该方案的要点是： 分别处理前后电极，浅扩散(100-120/sqr)和镀膜后先丝网印刷铝背场并烧结，然后在前表面旋涂磷源(磷酸
越窄，效率提高越多。 2、激光涂源掺杂电镀法 此为Roth&Rau的turnkey制备方案，该方案的要点是： 分别处理前后电极，浅扩散(100-120/sqr)和镀膜后先丝网印刷铝背场并
间接等离子：等离子没有直接和硅片接触，基片不接触激发电极( Roth&Rau)
直接等离子：等离子直接接触硅片，基片位于一个电极上，直接接触等离子体( Centrotherm 、岛津
9.Roth&Rau的可控参数
(1). 压强0.2mbar～0.3mbar
温度350℃～400℃
微波功率2800W～3600W
SiH4(0sccm～2000sccm)和NH3
表明了这一点。此外，此次会展还吸引了众多的市场新进者，如测量工具、框架、太阳能玻璃、连接器和电缆以及软件供应商等专业性公司。 瑞士电缆和连接器供应公司Stubli全球光伏销售主管Julian Rau
整体部分，并还有材料供应等议题，同时我们还组织了关于设备话题的小组讨论环节。在PERC领域，梅耶博格(Meyer Burger)是PECVD供应领域内的主导企业，通过几年前收购的Roth & Rau公司
获得足够的市场份额。尽管Roth & Rau公司的重点是在前表面的SiN沉积工艺上，PERC工艺中的后表面材料沉积则对梅耶博格的营收有着重要的贡献。激光设备供应也通常来自欧洲的激光设备集成商
