PVD

溅射（PVD）真空沉积设备和原子层沉积（ALD）设备制造专家AVACO日前宣布，为光伏电池开发了一个新缓冲层沉积概念。 通过使用原子层沉积（ALD）工艺，AVACO声称，已经将能

索比光伏网讯:溅射(PVD)真空沉积设备和原子层沉积(ALD)设备制造专家AVACO日前宣布，为光伏电池开发了一个新缓冲层沉积概念。通过使用原子层沉积(ALD)工艺，AVACO声称，已经将能

销售相关，由于PVD工艺与生产量的大幅提高，集团内部迎来更高效率与更低成本的非晶硅薄膜生产线的下一升温阶段。

工艺，以及其全自动的连结与智能控制。ISS 1200以物理气相沉积法 (PVD) 为运作基准，在物理制程的协助下，将钼之类的原料转换为气态，然后再沉积到玻璃基板上成为导电膜层。其占地面积小且模块化的
得以彻底削减太阳能电池相关部分的生产成本。」PVD 真空镀膜系统是整合薄膜太阳能电池生产线的重要关键，完整整合了薄膜太阳能电池的生产线，造就了薄膜电池生产的整厂解决方案，同时将薄膜电池的效率提升至与

年PV159，2009年PV173，2010年PVD1A、PVD2A、PV16A，2011年PV17A、17D、17F、17M。紧跟其后的是贺利氏SOL正银系列产品：2008年SOL952

阶段：2008年PV159，2009年PV173，2010年PVD1A、PVD2A、PV16A，2011年PV17A、17D、17F、17M。紧跟其后的是贺利氏SOL正银系列产品：2008年SOL952

、可靠性问题和腐蚀。IMEC将Cu接触引入太阳能电池的方法是基于在介质钝化层中综合激光烧蚀开窗口、接着是阻挡层物理气相淀积（PVD）或无电镀复（e-less plating）。此流程中采用如Ti、Ta

产品线。曼茨ISS 300到ISS 1200产品平台均由该公司开发，而溅镀工艺作为一种表面镀膜技术则历史悠久。溅镀系统的基本原理是物理气相沉积(PVD)，原料通过一系列物理过程被转换为气态，随后沉积

300MW生产线采购自瑞士欧瑞康。 2010年6月16日，铂阳公告称，与汉能控股签订了巨额销售合同，合同总金额为25.5亿美元。上述销售合同包含了420台PECVD设备及90台PVD设备，大概能支持

系统PVD的高科技企业。曙海公司的技术、经营团队，是由一批在太阳能和半导体集成电路设备研发、设计、制造领域工作了20多年的国际顶尖级留美博士专家回国后结合国内精英组成，拥有硅薄膜光伏设备和组件生产的