PVD

一层磷掺杂的a-SiCx钝化层，再利用激光在熔融钝化层的同时将其中的磷元素掺杂进晶体硅形成局部重掺，最后通过PVD的方法形成Al背面电极。背面磷掺杂的a-SiCx钝化层具有很好的钝化效果，金属接触区
SiO2，厚度约1~2nm，然后再沉积一层20nm厚的磷掺杂非晶硅层，经过高温退火后形成掺杂多晶硅，二者共同形成钝化接触结构，最后通过PVD的方法形成全背面金属接触。背面TopCon结构的隧穿效应示意图

（Sol-Gel）法等化学方法，以及物理气相沉积（PVD）法、磁控溅射法等物理方法。技术在不断进步发展中，这其中，目前已达到工业化生产程度的传统方法为溶胶凝胶法、磁控溅射法和化学沉积法。另外，也出现了

寻优快速得以实现。因光伏设施的输出功率PPV = U2PVD2/Rl（当不计效率影响）,其中UPV和Rl分别为光伏设施的输出电压和负载等效电阻，可见，若负载不变， PPV与D2成比例关系（因实际工作

高科技设备制造商Intevac(NASDAQ:IVAC)目前正在使其第二个MATRIX PVD系统符合另一家一级光伏制造客户。 Intevac在其第二季度收入电话会议中指出，使第二个PVD设备
符合资格的进展一直顺利进行。在此之前，Intevac曾表示，其预计该设备将迎来太阳能电池生产商的更多订单。 Intevac的MATRIX PVD系统用于先进的N型单晶硅太阳能电池金属化沉积工艺

。该订单包含了420台PECVD设备及90台PVD设备（分为三批交付，每批生产周期为6个月）,金额相当于2009财年太阳能设备销售收入的62.8倍。2011年8月，从大股东汉能获得59.5亿美元（折合

的半导体、平板显示和太阳能光伏行业精密材料工程解决方案供应商应用材料公司，近日推出全新的Applied Endura CirrusTM HTX物理气相沉积(PVD)*系统，采用突破性硬掩模技术，可
。应用材料公司过去数十年来始终致力于将PVD技术应用于TiN膜工程领域，Cirrus HTX TiN系统的推出是我们的又一大创新力作。结合我们独特的VHF *技术，这款新产品使客户能灵活地调整TiN硬

优势，基于早前多年的设备制造经验，我们相信这套高效单晶异质结生产整线是一款高端的，更具竞争力的产品。王博士说道。 据介绍，这套生产线共分为五大模块，分别是：制绒/清洗、PECVD、PVD、高电导
栅极工艺以及测试分选模块。其中在制绒/清洗板块，钧石中国采用独特的绒面削尖处理以及自主研发的清洗工艺，使硅表面更加洁净，呈均匀的金字塔分布、洁净的绒面降低反射率。生产线另外一大亮点是在PVD模块采用连续

of PVD Processing, p. 406, 1998 Z. Lu et al., J. Phys. D.: Appl. Phys. 46, 2013 H. Fujiwara et al.

38.14亿港元的可换股债券，换股价为0.329港元。2010年6月，铂阳公告称与汉能控股签订总金额为25.5亿美元的销售协议（包含了420台PECVD设备及90台PVD设备）。当年，汉能表面上与铂阳

，一家不愿透露身份的一级光伏制造商选择Intevac的新MATRIX PVD系统用于太阳能电池金属化工艺，在2014年出货。 管理层在电话会议上指出，他们预计在2015年第一季度对该溅射设备进行
我们能够在MATRIX平台收回总投资。 根据布隆尼根在收入电话会议中的发言，该公司与其他潜在光伏制造客户就PVD设备进行洽谈，并且预计该系统的销售机会超过一亿美元。 管理层还指出，其一直专注