LPCVD
，捷佳伟创依托二十余年技术积累，系统展示了覆盖n-TOPCon、异质结(HJT)、TBC、钙钛矿技术路线的高效电池整线解决方案，管式氧化铝原子层淀积炉(边缘钝化)、管式低压淀积炉(LPCVD)、激光
解决方案以突破性工艺打破效能边界，搭配EPD半边缘钝化、大产能叠舟PECVD及LPCVD等多项高性能核心工艺设备，为客户实现降本增效提供坚实保障。其中，新研EPD边缘钝化设备凭借“高钝化性能+低成本”双
高度集成化技术，将PECVD、LPCVD、PVD、ALD、扩散炉、退火炉等板式/管式设备有机融合，可提供覆盖TBC工艺所需的硼扩散/磷扩散、Poly、ALD、SiNx等关键设备，并针对客户研发需求及产线痛
叶继春在报告中指出，国内光伏产业已通过“基础理论-工艺开发-装备协同”模式实现TOPCon技术跨越。例如，管式PECVD技术路线通过温场优化、石墨舟寿命提升等工艺突破，将钝化性能提升至与LPCVD技术
至80分钟，接触电阻率达0.5-0.77Ω·cm²，实验室钝化性能指标直逼LPCVD技术。深圳捷佳伟创则展示激光图形化精度突破15微米，结合湿法清洗实现边缘钝化，解决BC电池工艺关键难题。工程中心技术
”到“部分引领”的跨越，但原始创新能力仍需加强，需通过“基础理论-工艺开发-装备协同”全链条突破技术瓶颈。红太阳光电则针对BC电池P区接触钝化提出三种解决方案，其中LPCVD设备通过温场优化、快速冷却
太阳能电池中主要来自原子层沉积(ALD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)或低压化学气相沉积(LPCVD)等镀膜技术在沉积薄膜的过程中引入的源气体，其不同的沉积参数会显著影响氢的浓度和扩散行为。研究
实现了出货，并投产了钙钛矿中试线;拉普拉斯在财报中披露，应用于TOPCon电池工艺的LPCVD设备，亦成为XBC电池工艺中制备隧穿氧化层和掺杂多晶硅层的主流量产技术。相比较之下，主产业链其它环节的光伏卖
对半导体AOI检测设备进行了技术升级，半导体订单规模也突破了1亿元。不止奥特维，晶盛机电亦是如此。作为全球硅片设备的龙头企业，晶盛机电在布局PECVD、LPCVD、ALD等电池设备的同时，亦加速向
设备、脱胶清洗设备、制绒机、硼扩散炉、管式LPCVD主机、磷扩炉、ALD主机、正膜背膜主机、丝网印刷机、烧结炉、清洗机、热水机、干燥机、冷冻水泵、锅炉等生产及公辅设备。上述项目建设工期为：一期2025年3月至2025年12月;二期2026年3月至2026年12月。
工艺存在差别;而光伏技术的更新换代是以迭代的方式进行，部分传统技术工艺会沿用到新技术当中。以LPCVD(低压力化学气相沉积法)为例，TOPCon和一些BC技术均会用到此项工艺进行钝化处理，便有人将这种
近日，拉普拉斯（SH:688726）在接受投资者调研时表示，公司产品覆盖的技术路线包括 TOPCon、HPBC及ABC等。公司可以为TOPCon、XBC电池产线提供硼扩散、LPCVD、 磷扩散、氧化
匹配来自不同温度、强弱光、紫外线辐射的影响，增强电池的可靠性。为了控制成膜质量和成本，晶科沿用低压硼扩(低压化学气相沉积LPCVD)工艺，而不是PECVD，这样成膜均匀性好、致密度高，且专利安全
