CVD
? 一般来讲CVD占50%，PVD占比20%，丝印15%，清洗制绒7-10%，迈为的自主的PECVD、PVD、印刷是占到90%，清洗制绒我们参股的公司是30%，我们在整线中的占比达到95%。 今年
PECVD完成;5)背面透明导电膜沉积，可由PVD或CVD完成;6)丝网印刷等。由于P-N扩散区制备需要多次掩膜和光刻，HBC整体工艺流程可长达20步，梅耶博格与瑞士电子与微技术中心在2019年推出隧穿
。这种效应可以通过具有钝化这一特殊性质的特种材料来抵消。 该制造工艺采用湿化学工艺、化学气相沉积法(CVD)和溅射技术。原型由微小的金字塔形双层碳化硅纳米晶体与透明的氧化铟锡层组成，且这两层都沉积
，研究人员沉积了双层微小的金字塔形纳米碳化硅晶体，在两种不同的温度下应用。最后，一层透明的氧化铟锡紧随其后。研究人员在过程中使用了湿化学工艺、化学气相沉积(CVD)和溅射工艺。
思路，历经十余载的发展，公司的CVD、PVD及扩散氧化类设备达到行业一流水平，已在国内外树立起 烁科装备 的品牌形象。公司拥有雄厚的技术实力基础，是国家光伏装备工程技术研究中心产业化基地，同时也是
一些美国知名的专家和博士，围绕着如何设计一个热场，开展了一年多的工作，主要解决了：1、炉体改造，稳场控制;2、石英坩埚的解决方案：800度的高温CVD，设备很大，边长是1米3-1米5，我们自己做的。3
第三个基地的一期，再完成6GW。未来整体的规划达到18GW。
2、长兴基地目前的进展
长兴1线主要是用进口设备，YAC制绒+应材的CVD+捷佳的RPD+应材的丝网。爱康目前量产的量还不是很大，产线的匹配
投资13.3亿元新增20GW PERC+高效新型电池湿法设备、20GW HJT超高效新型电池的湿法设备以及单层载板式非晶半导体薄膜CVD、50套HJT电池镀膜设备(PAR)，项目建设期为2年
薄膜CVD设备产业化项目，拟投资金额99,877.18万元，主要建设内容包括生产场地建设、生产设备购置安装和软件购置，并经过产业化验证后，形成新型电池湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD设备生产基地
。
该项目计划建设期为2年，完全达产后每年新增20GW PERC+高效新型电池湿法设备，新增20GW HJT超高效新型电池的湿法设备以及单层载板式非晶半导体薄膜CVD。
另外，捷佳伟创拟投资
半导体薄膜CVD设备产业化项目)，主要建设内容包括生产场地建设、生产设备购置安装和软件购置，形成新型电池湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD设备生产基地。该项目建设期为2年，达产后每年新增20GW
PERC+高效新型电池湿法设备，新增20GW HJT超高效新型电池的湿法设备以及单层载板式非晶半导体薄膜CVD。
此外，公司拟投资33,438.34万元，拟在深圳市坪山区新建二合一透明导电膜设备
湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD设备产业化项目)，主要建设内容包括生产场地建设、生产设备购置安装和软件购置，并经过产业化验证后，形成新型电池湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD设备生产基地
。
该项目计划建设期为 2 年，完全达产后每年新增 20GW Perc+高效新型电池湿法设备，新增 20GW HJT超高效新型电池的湿法设备以及单层载板式非晶半导体薄膜CVD。
公司拟投资
