镀膜

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亚玛顿荣获2020“光能杯”评选“最具影响力光伏组件企业”大奖来源:索比光伏网 发布时间:2021-03-03 17:49:37

型企业、福布斯最具潜力企业。2011年在深交所中小板上市。(股票代码:002623) 亚玛顿是技术主导型的制造企业,始终专注于光伏镀膜玻璃、超薄物理钢化玻璃和双玻组件的研发、生产和销售。凭借在前瞻领域的
巨大研发投入,亚玛顿不断推陈出新,通过采用先进的大尺寸薄型热钢化技术,将钢化玻璃减薄至2mm及以下,搭载高性能减反射镀膜技术,配合独特的光伏组件设计理念,创新开发了超薄双玻组件,助力光伏行业进入更薄、更轻、更耐久的轻量化;时代!

2021扩产竞赛再起:硅棒硅片100GW、电池组件63GW、多晶硅24.5万吨来源:索比光伏网 发布时间:2021-03-01 08:35:53

投资13.3亿元新增20GW PERC+高效新型电池湿法设备、20GW HJT超高效新型电池的湿法设备以及单层载板式非晶半导体薄膜CVD、50套HJT电池镀膜设备(PAR),项目建设期为2年
焦作安彩新材料有限公司,开展年产18万吨压延太阳能电池封装玻璃项目建设。1月17日,亚玛顿旗下凤阳硅谷智能有限公司二期项目年产2亿平方米特种超薄镀膜双玻组件用玻璃项目在滁州举行开工仪式。2月20日,安

40GW!捷佳伟创将新增光伏电池设备产能来源:世纪新能源网 发布时间:2021-02-25 17:21:04

镀膜设备 (PAR)。 公告显示,光伏行业正处在PERC电池扩产高峰期,逐步向PERC+、HJT拓展阶段,公司HJT电池生产设备国产化正在积极推进中,背钝化技术氧化铝镀膜设备研发已形成

布局光伏产业新赛道 珠海港已通过收购秀强股份逾25%股权事项来源:北极星太阳能光伏网 发布时间:2021-02-25 09:33:52

转让25.01%股权》),相关补充协议、股票质押协议等尚未签署。 此次收购事项已于珠海港2月24日召开的第十届董事局第四次会议上审议通过。 秀强股份主要从事以印刷、镀膜技术为基础的玻璃深加工产品的

捷佳伟创拟新增年产40GW电池设备+50套HJT镀膜设备产能来源:苏大光伏校友会 发布时间:2021-02-24 08:39:35

(PAR)产业化项目,主要建设内容包括生产场地建设、生产设备购置安装和软件购置。该项目计划建设期为2年,完全达产后每年新增50套HJT电池镀膜设备(PAR)。 目前,光伏行业正处在PERC电池扩产
高峰期,逐步向PERC+、HJT拓展阶段,公司HJT电池生产设备国产化正在积极推进中,背钝化技术氧化铝镀膜设备研发已形成批量生产销售,PERC+电池工艺技术钝化设备研发已进入工艺验证阶段。本次募集资金

捷佳伟创拟新增年产40GW光伏电池设备产能来源:光伏前沿 发布时间:2021-02-23 10:41:10

HJT电池镀膜设备(PAR)。 公告显示,目前,光伏行业正处在PERC电池扩产高峰期,逐步向PERC+、HJT拓展阶段,公司HJT电池生产设备国产化正在积极推进中,背钝化技术氧化铝镀膜设备研发已形成

210硅片产能超92GW,“天升环”绑定46万吨硅料、58亿片硅片长单,210全阵营最新进展盘点来源:索比光伏网 发布时间:2021-02-20 08:22:16

11万吨,与中环、上机数控签订210单晶硅片32亿片,又与亚玛顿签订8500万平米光伏镀膜玻璃采购;而东方日升也与上机数控签订22.5亿片单晶硅片采购合同,并向福莱特采购光伏玻璃34GW。 经统计

晶澳王梦松:PERC效率很难突破24% 迭代和叠层技术有望成趋势来源:世纪新能源网 发布时间:2021-02-10 07:39:05

%,理论上有望提升到24%,再往上提升难度非常大,特别是面临大尺寸挑战的情况下。 大尺寸硅片下,扩散和镀膜的均匀性更难控制,SE、激光、印刷的控制要求更为精准,版图优化要求更高,良率
;要做好大尺寸下硼扩散均匀性和多晶硅镀膜均匀性的控制。 对异质结技术来说,它的机遇是工序简单,效率更高,在薄片化上比较有优势,在发电性能上由于温度系数低、双面率高,更有优势。它的挑战主要在于设备和

2021年预计新增电池片产能100-120GW来源:广发证券 发布时间:2021-02-03 09:40:03

PECVD设备,PECVD全称为等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),实际是一种钝化/镀膜方式,可以用来沉积不同的薄膜
。在PERC中用来沉积SiNx薄膜与钝化AlOx薄膜,在TOPCon中用来钝化氧化硅薄膜与沉积本征多晶硅薄膜,在HJT中用来沉积非晶硅薄膜,因为沉积的薄膜不同,设备的构成、镀膜速度、投入等存在巨大

2021年预计新增电池能100-120GW来源:广发证券 发布时间:2021-02-03 08:48:24

,例如PECVD设备,PECVD全称为等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),实际是一种钝化/镀膜方式,可以用来沉积不同的
薄膜。在PERC中用来沉积SiNx薄膜与钝化AlOx薄膜,在TOPCon中用来钝化氧化硅薄膜与沉积本征多晶硅薄膜,在HJT中用来沉积非晶硅薄膜,因为沉积的薄膜不同,设备的构成、镀膜速度、投入等存在巨大