等离子体
● 其等离子体电源产品具有广泛的功率与频率范围，凭借出色的精度、能效和工艺稳定性，满足不同类型太阳能电池的涂层和镀膜工艺需求，倍受制造商青睐。●立足百年电源经验，通快霍廷格电子持续以‘德国品质’结合
‘中国速度’，提供符合未来需求的等离子体电源解决方案，助力光伏行业的高质量发展。通快霍廷格电子将于6月13日-15日亮相SNEC PV+
第十七届(2024)国际太阳能光伏与智慧能源(上海)大会暨
。这一步骤中，RF电源将硅烷、氢气等工艺气体激发为等离子体态，并使其相互反应，最终以薄膜形式沉积在硅片上。(6)PVD镀膜：在电池表面沉积TCO透明导电氧化薄膜，利用磁控溅射原理，将TCO材料以薄膜形式均匀
欢聚一堂共同探讨行业前沿技术，展望光伏发展未来。光伏产业交流会精彩纷呈北方华创展台引发行业关注北方华创受邀出席本次会议，依托自主研发的低压扩散、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和低压力化学气相沉积
(LPCVD)三大产品系列，向与会来宾呈现了低压硼/磷扩散、低压力化学气相沉积(LPCVD)、正膜/背膜等离子体增强化学气相沉积(PECVD)，以及等离子体增强化学气相沉积法制作多晶硅层(PE-POLY
激光脉冲之所以能在保持能量相当的情况下将脉宽压缩到皮秒的1/20，是因为其峰值功率提高了20倍，达到了GW级别。这种高功率带来了更强的非线性吸收，导致材料吸收深度降低，更多的激光能量使材料形成等离子体
(2m×2m)VHF-PECVD(甚高频等离子体增强化学气相沉积)系统制备高品质纳米硅基薄膜技术，结合产学研团队同步研发的PVD过渡金属掺杂的高迁移率TCO工艺，以及无种子层直接电镀工艺实现金属化技术
Lennon等人开发了一种工业规模的高频等离子体增强化学气相沉积系统。该系统具有最小化的驻波效应，能够沉积具有优异电子选择性、低寄生吸收和高均匀性的掺杂nc-SiOx:H。接下来，作者展示了无籽
，主要使用化学气相沉积法，所以也带来多种沉积路线的探索与试错。初期，行业曾在原子层沉积(ALD)设备和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备中抉择，而随着工艺的成熟，且PECVD设备进行电池正面
2c)。电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测量结果表明，在动态水冲刷的3300小时过程中，泄露的Pb2+浓度仅仅为3.94 ppt，这低于世界卫生组织规定的安全饮用水(0.01 ppm)的
在于散射能力较弱、激光刻蚀性差、材料和制程成本高、在等离子体中不够稳定。FTO
玻璃：导电性比 ITO 玻璃略差，但成本较低、容易激光刻蚀，目前主要用于 Low-E 玻璃，改变雾度和导电性后可做
TCO 玻璃。ZnO
玻璃：氧化锌基薄膜结构为六方纤锌矿型，材料易得、制造成本低、无毒且 易于掺杂、在等离子体中稳定性好，但大面积镀膜存在难度。TCO 制备的方法包括化学气相沉积(CVD)、溅射
)，高电压下氩气辉光放电，电离的氩离子在电场力作用下加速轰击放置在阴极的靶材，被溅射出的靶材分子沉积在基片表面形成薄膜。3)离子镀膜：真空条件下，通过等离子体电离技术离化镀料靶材，靶材分子部分电离
