溶液涂布

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科学家发展出制造低成本CIGS太阳能电池的新技术来源:光电新闻网 发布时间:2009-09-03 09:45:44

存在,则可以很容易的涂布或是附着于基板表面并烘烤。侯提到”利用我们的方法,其中的优势之一在于材料的利用,另外则是材料以溶液的状态存在,有利于使用连续式的卷对卷(roll-to-roll)制程生产,这些
有一定的挑战。   杨教授团队的铜铟镓二硒材料并不利用真空蒸镀的方式来制备,而是将材料简单的溶于溶液之中,透过烘烤而成。他们利用联氨(hydrazine)当作溶剂去溶解硫化铜(copper

自清洁、低反射率表面提高2%的电池效率来源:Solarbe.com 发布时间:2009-04-28 22:59:15

氢氧化钾(KOH)溶液沿着多晶硅平面刻蚀硅,在其表面制作出微米级的金字塔结构。然后采用电子束工艺将纳米级的金颗粒涂布在金字塔结构上。再利用氟化氢(HF)和双氧水(H2O2)溶液,金作为催化剂,进行金属辅助

Sharp转向研究染料敏化太阳能电池 以降低生产成本来源:光伏国际 发布时间:2009-03-31 19:22:11

层的有效受光表面积约变为电极表面积的100 倍,因此能以极少量物质达到很大的吸光效率。 其二,制造感光颗粒,只需将半导体颗粒浸泡在含染料的溶液中,再用惰性气体风干即可;涂布在阳极表面上的平整度
所谓DSSC(dye-sensitizedsolar cell,染料敏化太阳能电池),其基本设计是用纳米尺寸的金属氧化物半导体的颗粒,以化学方法使其表面吸附染料分子,再将这种颗粒涂布在电池电路的阳极上

IMEC研制全印制太阳能电池 光电转换效率为3%来源: 发布时间:2009-03-18 21:55:59

包括驻厂与客座研究员,07年为国家带来的税收约为24亿欧元。它们主要解决学术上基础科学与工业制程之间的差异,拥有独特的制程,系统技术,专利群组以及最先进的设备。如今它们验证了全溶液制程的有机太阳能电池
。 我们开发一个方法,让全溶液制程的有机太阳能电池可以得到高质量的电性接触,因此这样的电池具有3%的电力转换效率。IMEC如此说道。比利时的研究实验室利用早先开发且用于有机太阳能电池主动层的喷洒

可印刷电子、丝网印刷及喷墨印刷等技术将在不同领域各显其能来源:Solarbe.com 发布时间:2009-03-17 00:40:14

低粘度溶液,最终能否采用喷墨技术仍然不清楚。在不散落Aatellite(本文注:从主液滴飞散的物质)的情况下,要实现从多喷嘴打印头中高速喷出、能长期稳定地工作、基本不发生不喷射等故障、而且还具有工业上
:LCD彩色滤光片(RGB颜料)、配向膜涂布以及扩散板制作等,显示器最终是由人来观看,因此要求的像素密度本身并不太高,现有的喷墨打印头即可充分满足形成图案的要求。不过,在应用领域中,也有要求更高分辨率的产品

系统薄膜的加工方法和材料技术总汇来源:Solarbe.com 发布时间:2009-03-13 00:50:44

TBP的前驱体。将溶液状的前驱体涂布在底板上,利用180℃的热处理转换成具有半导体功能的卟啉膜。电子迁移率最大为1.8cm2/Vs。三菱化学计划从2010年开始利用卷对卷方式生产使用该材料的发光效率为7
印刷在薄膜底板上的墨水,防止涂布处的周围产生大面积浸湿。 通道长1m的有机晶体管 (2)喷墨涂布主要用于有色层、布线层、绝缘层及半导体层等的形成。喷墨的优点是无需底板,可直接涂布于平面

三菱电机公布两种厚度的多晶硅太阳能电池 皆达全球最高效率来源: 发布时间:2008-09-19 11:29:59

防反射膜与太阳电池背面以网印涂布的胶状材料,使厚度100μm的单元实现了17.4%的转换效率;所发表的海报题目为"Improved Efficiency of 17.4% for Ultra-thin
mc-Si Solar Cells with Nano-particulate Anti-reflection Coating."。三菱电机在太阳电池表面使用含MgF2粒子的溶液,形成了MgF2粒子

本田首次公布CIGS太阳能电池技术 令人吃惊的数据接连不断来源: 发布时间:2008-01-18 16:46:59

需要从外部补充Na。此时利用汽车涂装时使用的喷涂器来涂布含Na的溶液。(3)的InS缓冲层虽然通常多使用CdS,此次为避免使用Cd而采用了InS。   本田正在量产的模块转换效率平均值为11.1%,最高为11.6%。试产线最高已达到12.2%,该公司计划依次向量产线移交技术。

三菱电机将多晶硅转换效率提至18% 在标准构造中为最高值 来源:Solarbe.com 发布时间:2007-12-12 00:00:47

面积将其提高至18%。   RIE Texture技术采用直径为3μm的硅粒子作掩膜,通过蚀刻在晶圆表面形成数μm的凹凸。由于是在晶圆上涂布含硅溶液,以自组织方式排列硅,形成掩膜的成本得以削减至最低