湿法
环节均处于国产设备逐渐导入的过程中：
►制绒清洗：采用与PERC相似的湿法化学清洗设备，但要求更高的刻蚀损伤层厚度以及在低温环境下处理。制绒清洗工艺包括RCA清洗法和臭氧清洗法，臭氧清洗法在满足工艺
制绒清洗全套技术，并结合自有半导体湿法技术研发)合作的方式突破了HJT清洗设备，加入整线解决方案中。
►非晶硅薄膜沉积：我们估计该阶段的设备价值量占比达到~50%，是HJT设备中价值量占比最高的设备
研发。 设备领域，公开显示，捷佳伟创已经基本实现TOPCon湿法设备的量产，钝化设备研发已进入工艺验证阶段。 尽管巨头纷纷入局，但TopCon要突围仍面临重重挑战 行业专家此前谈到，TopCon的
县城延伸;提升文化艺术品位、提升专项治理水平。 6.五水：水源、水权、水利、水工、水务。 7.六个百分百：施工工地周边100%围挡，物料堆放100%覆盖，出入车辆100%冲洗，施工现场地面100%硬化，拆迁工地100%湿法作业，渣土车辆100%密闭运输。
沉积，因此还需要在 PERC 产线上增加 LPCVD 和湿法刻蚀设备。 2) HJT 电池由于采用晶硅/非晶硅异质结结构(PN 结由不同材料构成)，最高工艺温度不 能超过非晶硅薄膜形成温度(200
、插片机(硅片清洗、半导体插片、玻璃插片)、清洗机(硅片清洗、石英管清洗、电极板清洗等)、脱胶机、单多晶制绒、制绒自动上下料、链式湿法刻蚀、刻蚀自动上下料等高端制造设备。
全自动插片清洗一体机、插片机(硅片清洗、半导体插片、玻璃插片)、清洗机(硅片清洗、石英管清洗、电极板清洗等)、脱胶机、单多晶制绒、制绒自动上下料、链式湿法刻蚀、刻蚀自动上下料等高端制造设备。
投资13.3亿元新增20GW PERC+高效新型电池湿法设备、20GW HJT超高效新型电池的湿法设备以及单层载板式非晶半导体薄膜CVD、50套HJT电池镀膜设备(PAR)，项目建设期为2年
后将全部用于超高效太阳能电池装备产业化项目、先进半导体装备(半导体清洗设备及炉管类设备)研发项目和补充流动资金项目。
其中，捷佳伟创拟在常州市新北区新建超高效太阳能电池湿法设备及单层载板式非晶半导体
薄膜CVD设备产业化项目，拟投资金额99,877.18万元，主要建设内容包括生产场地建设、生产设备购置安装和软件购置，并经过产业化验证后，形成新型电池湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD设备生产基地
(含本数)，在扣除发行费用后将全部用于以下项目：
公告显示，公司拟投资99,877.18万元，拟在常州市新北区新建泛半导体装备产业化项目(超高效太阳能电池湿法设备及单层载板式非晶
半导体薄膜CVD设备产业化项目)，主要建设内容包括生产场地建设、生产设备购置安装和软件购置，形成新型电池湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD设备生产基地。该项目建设期为2年，达产后每年新增20GW
湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD设备产业化项目)，主要建设内容包括生产场地建设、生产设备购置安装和软件购置，并经过产业化验证后，形成新型电池湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD设备生产基地
。
该项目计划建设期为 2 年，完全达产后每年新增 20GW Perc+高效新型电池湿法设备，新增 20GW HJT超高效新型电池的湿法设备以及单层载板式非晶半导体薄膜CVD。
公司拟投资
