Johannes Meier博士发明的,由非晶硅和微晶硅两种不同的硅材料组成的。这个具有专利的组合提升了能源转换效率,与传统的非晶硅单个电池相比,提升了50%。制成的环保型高效微晶硅叠层组件为客户提供了
,正电极和背电极层 2. KAI1200为等离子体增强化学气相沉积(PECVD),非晶和微晶硅光敏层 3. LSS 1200激光划线来制作串联电池。 (编辑:xiaoyao)
一阶段,太阳能研究工作取得一些重大进展,比较突出的有:1945年,美国贝尔实验室研制成实用型硅太阳电池,为光伏发电大规模应用奠定了基础;1955年,以色列泰伯等在第一次国际太阳热科学会议上提出选择性
太阳能开发银行,促进太阳能产品的商业化。日本在1974年公布了政府制定的“阳光计划”,其中太阳能的研究开发项目有:太阳房 、工业太阳能系统、太阳热发电、太阳电池生产系统、分散型和大型光伏发电系统等。为
里,硅太阳电池在空间应用不断扩大,工艺不断改进,电他设计逐步定型。这是硅太阳电池发展的第一个时期。第二个时期开始于70年代初,在这个时期背表面场、细栅金属化、浅结表面扩散和表面织构化开始引人到电池的制造
)背表面电场(BSF)电池――在电他的背面接触区引入同型重掺杂区,由于改进了接触区附近的收集性能而增加电他的短路电流;背场的作用可以降低饱和电流,从而改善开路电压,提高电池效率。 (2)紫光电他
已开始在澳大利亚建造一座70MW的槽型太阳能热发电装置,并计划在以色列建一座200MW的电站,同时正在洽谈在北美洲和另两洲建三座电站,每座200~300MW。Solel公司在澳大利亚的另一目标是
:① 单双层减反射膜;②激光刻槽埋藏栅线技术;③绒面技术;④背点接触电极克服表面栅线遮光问题;⑤高效背反射器技术;⑥光吸收技术。随着这些新技术的应用,发明了不少新的电池种类,极大地提高了太阳能电池的
(3)籽晶层或匹配层的制备
(4)晶粒的增大
(5)沉积多晶硅薄膜
(6)制备P-N结
(7)光学限制:上下表面结构化,上下表面减反射
(8)电学限制:制备背场(BSF)和前后电极的欧姆
单晶硅衬底上用CVD法外延生长得到20UM的硅薄膜,在生长的同时掺入硼,使得硅薄膜成P型。再通过磷扩散在薄膜上形成P-N。在电池的正表面生长一层110NM的SIO2膜,该膜具有减反射和表面钝化的双重
,同样具有较低的体电阻和背接触电阻,而且由于和高电阻p型层形成了背场,有利于Voc的提高。
2.5.3 (ZnCd)S2/CulnSe2太阳电他
为了进一步提高电他的性能参数,以
广泛应用于太阳电池窗口层,并作为n型层,与p型材料形成p-n结,从而构成太阳电池。因此它对太阳电池的特性有很大影响,特别是对电池转换效率有很大影响。
一般认为,窗口层对光激发载流子是死层,其
。通常情况下,半导体的费米能级位于禁带。费米能级距导带底较近,则电子为多数载流子,材料为n型。费米能级距价带顶近的,空穴为多数载流子,材料为p型。费米能级位置可以通过适当掺杂加以调节。就是说,半导体电导的数量和
磷形成n区,i为非杂质或轻掺日的本征层(因为非掺杂a。s是弱n型)。重掺杂的p、n区在电池内部形成内建势,以收集电荷。同时两者可与导电电极形成欧姆接触,为外部提供电功率。i区是光敏区,光电导/暗电导比
空间应用不断扩大,工艺不断改进,电他设计逐步定型。这是硅太阳电池发展的第一个时期。第二个时期开始于70年代初,在这个时期背表面场、细栅金属化、浅结表面扩散和表面织构化开始引人到电池的制造工艺中
出现和发展 晶硅电池在70年代初引入地面应用。在石油危机和降低成本的推动下,太阳电池开始了一个蓬勃发展时期,这个时期不但出现了许多新型电池,而且引入许多新技术。例如: (1)背表面电场
电池种类
转换效率(%)
研制单位
备注*j
单晶硅电池
24.7±0.5
澳大利亚新南威尔士大学
4cm2面积
背接触
:} Tb9t0c9M2}/s
20.415-1
2′2光伏太阳能论坛 Photovoltaik Solar Forum-?0y6MR6liu'ec10′10(实用型)
GaAs
晶体硅光电池有单晶硅与多晶硅两大类,用P型(或n型)硅衬底,通过磷(或硼)扩散形成Pn结成制作,生产技术成熟,是光伏市场上的主导产品。采用埋层电极、表面钝化、强化陷光、密栅工艺、优化背电极及