去除

FSI 国际有限公司宣布已成功地采用FSI ViPR?技术在自对准多晶硅化物形成后去除了未反应的金属薄膜。通过实现这一新的工艺，IC制造商可以在钴、镍和镍铂硅化物集成过程中，大幅度减少化学品的
硅化物最早应用于65nm逻辑器件，因为它的阻抗更低，从而可实现器件性能的大幅改善。但在早期应用中，业界发现在不损害镍铂硅化物区域的情况下，去除未反应的镍和铂是非常有挑战性的。在2005年，FSI凭借其

湾中央科学园区建设的薄膜光伏（PV）生产装置供应超纯气体。长期协议包括供应大量硅烷和氢气，应用于将硅光吸收层沉积在大的玻璃板上，同时供应清洗气体用于从工艺过程腔室内去除硅沉积物。 新的PV装置于2008年第二季度投产，采用新的工艺技术，生产的太阳能板比现有生产的太阳能板大5倍。

8.5代大尺寸的认证炉子，以加速认证的取得。 太阳能业者指出，认证所需的设备炉成本以新台币千万元计价，比起投资薄膜以新台币10亿元为单位计价，算是小额投资，但却可以去除等待的时间提前取得认证

低成本硅、更有效的线锯和更好的包封料――可以降低太阳能能源的价格。JEF Steel提供由冶金工艺制备的多晶硅，可以去除硅中的杂质（首先在真空中获得电子束，之后在氩气环境中用等离子体点火）并且对熔物在连续

各国政府的补助，就像缺乏奶水的婴儿，增长随即受到影响。 美国国会打算将太阳能投资抵减税额相关规定，自能源法案中去除，这种降低或去除太阳能补助办法的作法并不是首例，全球前2大太阳能市场德国及
，该方案去除主要即是为公平起见，因为安装太阳能发电系统的住户所取得补贴，正是全国纳税人的钱。2007年日本太阳能市场已出现萎缩情况，2007年4~6月总产出190百万瓦(MWp)，仅为2006年的86

物业公司的阻挠，“强制安装”去除了推广过程中的安装瓶颈，太阳能普及事业将迎来爆发式的增长。　　但是，我们不能忽视强制集中安装太阳能，既要承担项目风险，又会增加安装时间，开发商根本没有动力。同时，也存在

一. 硅片的化学清洗工艺原理　　硅片经过不同工序加工后，其表面已受到严重沾污，一般讲硅片表面沾污大致可分在三类：　　A. 有机杂质沾污： 可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来去除。　　B.
颗粒沾污：运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μm颗粒，利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μm颗粒。　　C. 金属离子沾污：必须采用化学的方法才能清洗其沾污，硅片表面金属

比较少见的方式是，雾状缺陷会影响光透过掩膜版的传输，从而引起特征尺寸（CD）的变化。当掩膜版上的污染最终达到无法接受的程度时，就需要进行“保护膜再覆盖（repell）”工艺，即先去除原有的保护膜
晶圆计数之间。图1中那些寿命较短的掩膜版曾进行过repell工艺。以前的工艺使用含硫的Piranha溶液，所以必须设法去除其中的硫成分。办法是通过加入氢氧化铵来得到硫酸铵，然后将硫酸铵清洗干净。但即便

100%地漫射（即Lambertian折射器）。这使得光子能够以60°的平均角穿过有源层，使光程长度增大为原来的2倍。换而言之，使20 mm薄层的光学表现相当于40mm厚的有源层。我们发现，通过去除

，“强制装设”将去除推广过程中的装设瓶颈，太阳能普及事业将迎来发展的良机。　　　　【阻力】装设成本高昂，地产商不愿配合　　　　“强制装设”政策，地产商的配合无疑是关键。考虑到政策规定中留下的诸多空间，比如