半导体芯片

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黑科技:纯硅变“黑硅” 可简化太阳能电池制造来源:eet-china 发布时间:2015-06-17 09:17:12

金质细线作为电极,而且不必再移除使用过的催化剂粒子。研究人员发现,以化学浴沈积进行蚀刻也发生在距离设定的金属线外之处。Barron表示,这一距离的存在似乎与硅晶的半导体特性有关。Yen-Tien以金质的
我们如何试验,都会出现这样的距离。电子显微镜影像显示在用于太阳能电池的芯片表面上快速制作出可吸收光线的精细突起与孔隙。莱斯大学研究人员开发出在黑硅工艺中兼负双重任务的金电极作为催化剂加速表面蚀刻

黑科技:纯硅变“黑硅”可简化太阳能电池制造来源:eet-china 发布时间:2015-06-17 08:53:37

则可在初期工艺用于设置金质细线作为电极,而且不必再移除使用过的催化剂粒子。 研究人员发现,以化学浴沈积进行蚀刻也发生在距离设定的金属线外之处。Barron表示,这一距离的存在似乎与硅晶的半导体特性有关
在触点以外的一定距离处进行蚀刻。无论我们如何试验,都会出现这样的距离。 电子显微镜影像显示在用于太阳能电池的芯片表面上快速制作出可吸收光线的精细突起与孔隙。莱斯大学研究人员开发出在黑硅工艺中兼负

华为光伏逆变器SUN2000全系列通过中国效率认证测试来源: 发布时间:2015-06-11 16:14:59

产品品质起到了积极作用。各企业也在不断进行技术创新,以提高逆变器产品的发电效率。华为相关负责人介绍,在硬件上,华为逆变器三电平拓扑结构设计、两级功率变换、多路MPPT设计、使用业界最好的芯片和功率
半导体以及优化的磁性器件。在软件上,结合实际运行环境持续优化,使实际运行工况下的效率最高,措施包括MPPT算法优化、动态算法调整等。通过软硬件的技术结合,给业界提供最好品质的逆变器。 除了此次中国效率测试

英飞凌PrimePACK™结合最新IGBT5和.XT模块工艺延长产品寿命,提高功率密度来源:索比太阳能光伏网 发布时间:2015-06-11 11:24:38

英飞凌科技股份公司(FSE: IFX / OTCQX: IFNNY)近日推出发挥英飞凌新一代IGBT优势的最新一代PrimePACK功率模块。IGBT5和创新的.XT技术结合,是IGBT芯片和模块
等应用大部分高功率逆变器的最佳选择。 新推出的PrimePACK功率模块采用英飞凌最新推出的IGBT5芯片,其最高工作结温(Tvjop)提高了25K,可达到175C。与前代产品相比,IGBT5

台达NT系列UPS服务电子制造产线来源:中自网 发布时间:2015-06-08 10:42:51

。 在该项目中,中达电通推荐了在制造行业久负盛名的台达UltrOn NT系列400K UPS,用于保障该电子制造企业半导体集成芯片生产线的安全、高效运行。台达UltrOn NT系列UPS采用先进

华为:持续追求最优系统效率 SUN2000全系列通过中国效率认证测试98.41%业内最高来源:北极星太阳能光伏网 发布时间:2015-06-03 09:52:52

MPPT设计、使用业界最好的芯片和功率半导体以及优化的磁性器件。在软件上,结合实际运行环境持续优化,使实际运行工况下的效率最高,措施包括MPPT算法优化、动态算法调整等。通过软硬件的技术结合,给业界提供

华为:持续追求最优系统效率来源:索比太阳能光伏网 发布时间:2015-06-03 09:40:40

。 为什么华为逆变器可以做到中国效率最高? 华为相关负责人介绍:在硬件上,华为逆变器三电平拓扑结构设计、两级功率变换、多路MPPT设计、使用业界最好的芯片和功率半导体以及优化的磁性器件。在

多晶硅概念股有哪些?来源:同花顺 发布时间:2015-06-02 08:17:13

工智能、自动控制、信息处理等半导体器件的电子信息基础材料,被称为微电子大厦的基石,而最重要的是多晶硅是太阳能的核心原材料,目前我国多晶硅基本依赖进口,而由于技术垄断,公司发展前景非常看好。公司新设立的
亚洲地区规模最大的企业,并成为太阳能上游资源的垄断龙头。 特变电工(600089):在1月18日与峨嵋半导体研究所、新疆特变(集团)有限公司特变集团、上海宏联创业投资有限公司签署了《特变电工多晶硅

光伏逆变器配套情况及2015年展望来源:深圳晶福源 刘继茂 发布时间:2015-05-19 08:29:37

的因素,招标时不再是价格最低者中标。 光伏逆变器高度依赖于电力电子和微电子技术的发展,特别是半导体开关器件,以及微处理器。下面是TI公司C系列MCU的发展情况: 可以看到,逆变器的微处理器
是向着速度更高,功能更强的方向发展,每一代产品更新时间约为5-6年,逆变器使用时间约为8-10年,从芯片上市到逆变器大规模采用的时间约为2-3年,芯片的生产批量生产时间约为10-15年,对于集中式

应用材料公司的创新硬掩膜材料技术解决铜互连图形生成的挑战来源:世纪新能源网 发布时间:2015-05-18 23:59:59

支持10纳米及更小的铜互连图形生成。芯片尺寸的不断缩小需要更先进的硬掩模技术,从而保证紧凑、微型互连结构的完整性。随着这一全新技术的推出,应用材料公司成功延续氮化钛(TiN*,半导体行业的首选硬掩膜材料
半导体、平板显示和太阳能光伏行业精密材料工程解决方案供应商应用材料公司,近日推出全新的Applied Endura CirrusTM HTX物理气相沉积(PVD)*系统,采用突破性硬掩模技术,可