刻蚀

流动后不再回到原处，这样便形成电流，也就使硅片具有光伏效应; S14、等离子刻蚀，去除扩散过程中在硅片边缘形成的将 PN 结短路的导电层; S15、去磷硅玻璃，化学清洗硅片表面，去掉反应形成的

）的反射率较高，如何才能降低这部分的损失？将材料表面加工成介于微米-纳米级的微孔即可有效降低硅反射率从而提高短波的光吸收。黑硅电池，核心是通过刻蚀技术，一方面在常规硅片表面制绒的基础上形成纳米级的小绒面
，从而加大陷光的效果降低反射率，增加对光的吸收；另一方面，通过二次刻蚀来降低表面复合，从而将常规电池的转换效率绝对值提高。主流黑硅技术为干法制绒的离子反应法（ReactiveIonEtching

，国内光伏制造设备水平处于快速提升阶段，在晶体硅太阳能电池生产线的十几种主要设备中，8种以上国产设备已在国内生产线中居主导地位，其中单晶炉、扩散炉、等离子刻蚀机、清洗制绒设备、组件层压机、太阳模拟仪等已经
用。电池片环节：生产环节，清洗/制绒设备：基本以国产为主。扩散炉：经历了开管-闭管-全封闭（软着陆）-负压扩散几个阶段，大部分电池企业采用国产装备。刻蚀：基本采用湿法工艺，以国产设备为主。PECVD：以管式

种主要设备中，8种以上国产设备已在国内生产线中居主导地位，其中单晶炉、扩散炉、等离子刻蚀机、清洗制绒设备、组件层压机、太阳模拟仪等已经达到或着接近国际先进水平，多晶硅铸锭炉、多线切割机等设备制造技术取得
-闭管-全封闭(软着陆)-负压扩散几个阶段，大部分电池企业采用国产装备。刻蚀：基本采用湿法工艺，以国产设备为主。PECVD：以管式PECVD为主，也已基本实现国产。八、光伏是人为制造的虚假的繁荣?还是

种主要设备中，8种以上国产设备已在国内生产线中居主导地位，其中单晶炉、扩散炉、等离子刻蚀机、清洗制绒设备、组件层压机、太阳模拟仪等已经达到或着接近国际先进水平，多晶硅铸锭炉、多线切割机等设备制造技术取得
-闭管-全封闭(软着陆)-负压扩散几个阶段，大部分电池企业采用国产装备。刻蚀：基本采用湿法工艺，以国产设备为主。PECVD：以管式PECVD为主，也已基本实现国产。八、光伏是人为制造的虚假的繁荣?还是

太阳能电池生产线的十几种主要设备中，8种以上国产设备已在国内生产线中居主导地位，其中单晶炉、扩散炉、等离子刻蚀机、清洗制绒设备、组件层压机、太阳模拟仪等已经达到或着接近国际先进水平，多晶硅铸锭炉、多
设备：基本以国产为主。扩散炉：经历了开管-闭管-全封闭(软着陆)-负压扩散几个阶段，大部分电池企业采用国产装备。刻蚀：基本采用湿法工艺，以国产设备为主。PECVD：以管式PECVD为主，也已基本实现国产

、氧化、光刻、等离子刻蚀、PECVD化学汽相沉积、烧结、真空蒸发镀膜、RF溅射镀膜和离子束溅射镀膜等，还备有一些常规的半导体、薄膜及太阳电池测试分析手段，如四探针Hall效应测试仪、高频、准静态C-V

完整的晶体光伏电池中试线(可年产光伏组件50kW/年)，包括：高纯水制备、半导体清洗、扩散、氧化、光刻、等离子刻蚀、PECVD化学汽相沉积、烧结、真空蒸发镀膜、RF溅射镀膜和离子束溅射镀膜等，还备有一些

之间表面电势变化玻璃粉作为制备硅太阳能电池银浆材料的重要成分，在其中起着刻蚀减反层氮化硅的作用，玻璃粉的成分直接关系着电池性能的好坏，传统含铅玻璃粉在高温烧结过程中，首先氧化铅与氮化硅发生刻蚀反应，随着