刻蚀

产线上改变或者增加的工艺，可以最大化的利用现有PERC产线和工艺经验积累，增加的设备包括LVCVD/PECVD、离子注入机、退火炉、刻蚀设备等，不同的技术路线所对应的设 备有所不同，前文已经介绍过

光电子能谱原位表征系统观测到这一转变，但是紫外光电子能谱UPS是一种表面极其敏感的表征技术，它的探测深度只有1 纳米，所以我们并不知道薄膜内部电子结构是否也发生了相应的变化。如果用离子枪刻蚀，显然会

、丝网印刷设备。国产大通量低成本PECVD的突破将成为HIT产业化的发令枪。 捷佳伟创是太阳能电池片龙头，主要产品包括PECVD设备、扩散炉、制绒设备、刻蚀设备、清洗设备、自动化配套设备等。凭借

铸锭炉主要用于生产太阳能光伏电池所需的单晶硅棒，多晶硅锭。 捷佳伟创：国内领先的晶体硅太阳能电池生产设备供应商，主要产品是管式PECVD，罐式高温扩散炉，单多晶制绒设备。 北方华创：泛半导体领域的刻蚀机，PVD,CVD扩散炉等，广泛应用于光伏，半导体

生产设备供应商，主要产品是管式PECVD，罐式高温扩散炉，单多晶制绒设备。 北方华创：泛半导体领域的刻蚀机，PVD,CVD扩散炉等，广泛应用于光伏，半导体

系统解决方案集成商，主营PECVD、扩散、清洗、制绒、刻蚀等太阳能电池生产流程中的主要工艺设备以及自动化配套设备和智能制造系统等产品的研发、制造和销售，目前在职员工2300+，高学历研发人员400+
在于设备成本较低，成膜均匀性更好，镀膜工艺稳定，能够满足大规模产业化需求，但由于等离子体中包含大量高能粒子，会对基板表面产生强烈的轰击刻蚀作用。而RPD 技术的等离子体能量分布相对集中且离化率更高

，会对基板表面产生强烈 的轰击刻蚀作用，且沉积速率较慢。而 RPD 技术的等离子体能量分布相对集中且离化率更高，高能离子较少，表现 出低离子损伤的优良特性。同等条件下，RPD 技术制备的 TCO
设计较为灵活，既可配置平板式或旋转式、单个或双磁控管，又可以配置电子束枪或各种蒸发源，同 时可在真空状态下或在进入真空状态前进行清洗或刻蚀等特殊预处理。此外，设备自动化配套设施完善，硅片自动 上下

PERC+电池设备和HJT电池设备领域的竞争力，加快产品升级迭代。 光伏电池片设备是半导体工艺的应用领域之一，清洗制绒、扩散、刻蚀、PECVD均与半导体工艺环节相关。基于上述优势，捷佳伟创还计划提高在
6.46亿元的先进半导体装备(半导体清洗设备及炉管类设备)研发项目，公司将利用现有研发体系与资源，开展半导体刻蚀清洗设备、半导体晶圆涂布显影设备、气相沉积设备等高端工艺设备研发创新。公司称本次募集资金

实现全面平价。 走进位于陕西西安市的隆基乐叶太阳能电池工厂，高标准的洁净车间内，一片片边长166毫米、厚度仅170微米的银色单晶硅片，通过制绒、扩散、刻蚀、镀膜等工序后，成为墨蓝色的太阳能电池