减反射

比拟的，因此是一种用作晶体硅太阳电池减反射及钝化薄膜的理想材料。热生长的SiO2由于其良好的致密性，具有很好的表面钝化作用，而PECVD法沉积SiNx膜对硅片的表面和体内都有一定的钝化作用。由于短波
长的光在电池的上表面很小的薄层内有很大的吸收，因此为了更好地降低电池的上表面复合速率，提高电池的短波响应，同时结合热生长SiO2的表面钝化特性以及PECVD法沉积SiNx良好的减反射以及体钝化特点，硅片

中的难点包括P+扩散、金属电极下重扩散以及激光烧结等。转换效率为19.3％的太阳能电池模块。IBC电池的工艺流程大致如下：清洗-》制绒-》扩散N+-》丝印刻蚀光阻-》刻蚀P扩散区-》扩散P+-》减反射

索比光伏网讯:全球生命科学和材料科学专业公司荷兰皇家帝斯曼集团在荷兰Geleen地区Chemelot工业园区新建了KhepriCoatportant;"减反射涂料工厂。正是太阳能市场的快速扩张推动
了涂料需求的增长。KhepriCoatportant;"减反射玻璃涂料是由帝斯曼创新中心开发的一种专利产品，主要面向太阳能应用市场。该涂料是厚度为100-150纳米的纳米级核壳结构多孔涂层，应用于

难点包括P+扩散、金属电极下重扩散以及激光烧结等。转换效率为19.3%的太阳能电池模块。IBC电池的工艺流程大致如下：清洗-制绒-扩散N+-丝印刻蚀光阻-刻蚀P扩散区-扩散P+-减反射镀膜-热氧化-丝印

生产的主流技术。双层SiN减反射膜，通过控制各膜层中硅的富集率实现了5.5%的反射率；而另一种SiN与SiO混合膜，其反射率更是低至4.4%，目前广泛采用的单层SiN膜减反射率最优为10.4%.在电池

工艺流程大致如下： 清洗-制绒-扩散N+-丝印刻蚀光阻-刻蚀P扩散区-扩散P+-减反射镀膜-热氧化-丝印电极-烧结-激光烧结。 MWT电池结构

说明了除了正在进行的硅片减薄和新线锯技术之外的持续技术改进。为了在2015年之后在150m的电池上获得99.3%的良率，需要改善互连技术和消除应力的支持结构。在2015年之前需要在量产中采用无铅焊接，并
)。如图12所示，另一个富有挑战性的参数是kerf loss。随着硅片厚度的减薄，kerf loss也必须随之减小以实现硅消耗量的显著下降。随着宝石线锯工艺的引入， 该目标将得以实现。光伏电池正面和背面

说明了除了正在进行的硅片减薄和新线锯技术之外的持续技术改进。为了在2015年之后在150m的电池上获得99.3%的良率，需要改善互连技术和消除应力的支持结构。在2015年之前需要在量产中采用无铅焊接，并引入无
12所示，另一个富有挑战性的参数是kerf loss。随着硅片厚度的减薄，kerf loss也必须随之减小以实现硅消耗量的显著下降。随着宝石线锯工艺的引入， 该目标将得以实现。光伏电池正面和背面以及

2015年开始实现部分应用。 　　4.其它关键光伏制造技术 　　除了上面提到的三项技术，还有背接触电池技术、双面发电电池技术、组件前板玻璃减反射技术、组件前板玻璃减薄技术、无边框组件技术都是将来