光转膜

屏幕印刷采用17m布线 （1）屏幕印刷是用于半导体层、绝缘膜、金属层、有色层及粘着层等的印刷技术。屏幕印刷的优点是设备价格低廉，仅为1000万日元左右。而且，对印刷用墨水材料的制约因素较少
，材料使用效率高达约80％。主要适合于大面积成膜注1）。 注1）加工尺寸较大，为数十m，缺点是很难制成厚度小于30m的薄膜。 近年来，屏幕印刷量产水平的加工尺寸已从100m微细化到了

，得出了集热管膜层的表面微粒结构、化合物成分和光学性能之间的关系。对四层金属－介质膜层进行优化设置，使不同金属含量膜层界面间产生最大消光干涉，膜层性能指标可以达到吸收比αs＝0．96、发射比εh

增加，能在CdS层内收集到更多的光激发载流子。 1.3 CdS簿膜电学特性 一般而言，本征CdS薄膜的串联电阻很高，不利于做窗口层，在300℃-350℃之间，将In扩散入CdS中，把本征
，其晶格常数=1.6477l0-8cm，不同的制备方法其结构特性有一定的差异。 3．3光学特性 由于CdTe膜具有直接带隙结构，所以对波长小于吸收边的光，其光吸收系数极大，厚度为1m的

太阳电池中，利用宽带隙材料作顶电池，将短波长光能转变为电能；利用窄带材料作底电池，特长波长光能转变为电能。由于更加充分地利用了阳光的谱域，异质叠层阳电池应有更高的光电转挟效率，同时具有抑制光致麦退的效果
缺陷更多。膜中硅与锗原子并不是均匀合分布的。氢化时，氢择忧与硅键合。克服这些困难的关键是，采用氢稀释沉积法和掺氟。些材料的光电子特性可以做得很好。但氢含量通常偏高，材料的光致衰退依然存在。叠层构在一定程度上抑制了它对电池性能的影响。