光学膜

是指在基底上沉积特定材料形成薄膜，使之具有光学、电学等方面的特殊性能。按照工艺原理不同，可分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）设备。在传统工艺中，由于存在厚度控制和
膜层均匀性的问题，通过CVD与PVD工艺所生成的膜很难突破10nm以下的厚度极限。此外，在深宽比达到10:1以上时，CVD与PVD工艺无法保证下游工艺需要的近100%覆盖率的技术要求。而ALD工艺可以

材料生物相容性和化学稳定性，大力发展高性能、低成本生物医用高端材料。（二）培育发展新兴产业1.数字经济面向重点产业智能化需求，重点发展车用传感系统、电控单元、车载电子系统，大力发展精密光学器件、高端传感器
VOCs排放的重点工业园区废气处理设施建设。注重源头控制，提升车间装备水平，强化废气的收集，减少无组织废气的排放，有效开展泄漏检测与修复（LDAR），同时采用树脂吸附、膜吸收等工艺对高浓废气进行预处理，提高

节能灯具、输配电设备、余能利用设备、伺服电机、空压机、泵、膜处理设备、汽车尾气净化器、环境监测产品等重点技术及产品产业链，建成特色明显、创新能力强的节能环保产业体系。搭建环保大数据平台，推动产业集聚区
终端配套协作区建设，做大做强5G领域关键元器件、智能终端、精密机构件、关键光学元组件等配套产业和外围设备制造业。重点发展集成电路设计、专用芯片制造封装、专用材料等领域。积极引进集成电路设计、大尺寸硅片

TFT-LCD玻璃基板除外）322.偏光片基膜、扩散膜研发、制造323.电子书材料（电子墨水屏等）的研发、制造324.直径8英寸及以上硅单晶制造325.直径12英寸及以上硅片制造326.大屏幕彩色投影显示器用光学

载流子的横向传输及对外进行电流运输的通道，良好的透明导电膜可以实现较高的透光率和电导率，使得制备出的HIT电池具有较小的串联电阻和较高的填充因子，从而可大幅提升HIT电池的光电转换效率。其最早
材料，提高TCO导电薄膜的电导率，改善光学性能，提高透光率，降低制备成本并实现产业化，成为研究的热点。本文采用不同的技术手段进行TCO导电薄膜工艺参数对薄膜性能参数的影响分析，为提升异质结电池的转换效率

在于利用光在不同界面处的 反射进行干涉相消。当膜层的光学厚度为某一波长的 1/4 时，则利用光波 180°的 相位差可以进行叠加相消，氮化硅的折射率为 1.9，是最佳的电池减反膜材料。此外，氮化硅膜

波段的光谱响应;2) 改进了硅片背面的抛光工艺和激光开膜的结构，使该类太阳电池的光学损失达到了最小;3) 硅片越薄，生产过程中的碎片率就会越高，为有效降低碎片率，对该类太阳电池制备过程中的关键工艺
。6) 表面镀膜：利用板式 PECVD 设备在硅片背面制备 Al2O3/SiNx 钝化膜，采用管式 PECVD设备在硅片前表面制备 SiNx 钝化膜。7) 激光开膜：利用纳秒级 532 nm

其理论极限24.5%。N型硅片在少子寿命等方面具有天然优势，效率极限更高。技术原理：光伏电池核心结构为PN结和电极，效率损失主要分为光学和电学损失，HJT&TOPCon降低电学损失，IBC降低光学损失
与非晶硅之间镀制有本征非晶硅钝化膜，理论极限可达28.5%。IBC：电极放在背面减少光照遮挡损失，并且使用隧穿氧化层做电子传输，未来可叠加TOPCon或HJT技术，叠加后效率上限可达29.1%。成本