低电阻

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基于ARM的太阳能电池组件多参量测量系统来源:Solarbe.com 发布时间:2009-07-04 14:47:55

就可求出电阻值,从而测得温度值。利用运算放大器虚短与虛断的特征和精密基准电压源LM399稳压的特征构成了一个电流调节范围宽,温票小,恒流稳定性高的恒流源。精密基准电压源LM399是温度系数非常低的特性
组件进行对比研究,通过蓄冷设备降低太阳能电池组件背板的温度,提高能量的转换效率。这就要求系统对电池组件温度的检测具有足够的精度和实时性。鉴于此,本系统采用精度为0.1℃的铂电阻温度传感器Pt100为测温元件

企业纷纷涉足有机太阳能电池来源: 发布时间:2009-06-30 11:38:59

,通过使用印刷技术,有望大幅降低加工成本。与其他有机器件一样,有机太阳能电池也存在性能及寿命低的瓶颈问题。但其独特之处在于,已有风险企业在开拓在性能及寿命较低情况下也可实现的应用,并着手实施量产
面的表面积。该公司将力争在2015年前使转换效率达到7%。大日本印刷于2009年6月宣布,通过在电阻较大的透明电极上安装辅助电极,减小了损耗,使有机薄膜太阳能电池5cm见方单元的能量转换效率达到了4

爱发科上市6种功能且成本减半的薄膜硅太阳能电池评测装置来源:日经BP社 发布时间:2009-06-30 10:42:54

置。   MPEC-1300可评测串联结构薄膜硅太阳能电池制造工序所需的如下特性。(1)评测电极用金属薄膜膜厚及面内分布的“触针式表面形状测量”;(2)评测电极用金属薄膜电阻率分布的“电阻率测量”;(3

全球知名企业纷纷涉足有机太阳能电池领域来源:日经BP社 发布时间:2009-06-30 00:10:28

太阳能电池的形状及外观自由度高,通过使用印刷技术,有望大幅降低加工成本。   与其他有机器件一样,有机太阳能电池也存在性能及寿命低的瓶颈问题。但其独特之处在于,已有风险企业在开拓在性能及寿命较低情况下也可
体积中pn结界面的表面积。该公司将力争在2015年前使转换效率达到7%。   大日本印刷于2009年6月宣布,通过在电阻较大的透明电极上安装辅助电极,减小了损耗,使有机薄膜太阳能电池5cm见方单元的

太阳能级硅原材料评测的分析技术来源:埃文思分析集团 发布时间:2009-06-24 11:46:05

在于样品制备过程可能会改变我们关注的杂质的浓度,或者会产生对分析有影响或无影响的化学态。举个例子来说,取硅料将其生长为可以用于测量电阻率、少子寿命或傅立叶红外(FTIR)的多晶硅块。生长多晶硅块的过程
可能引入氧、碳、氮和铁等杂质,甚至铝等掺杂元素。或者工艺过程中可能会形成一种氧的混合的复杂的化学态,这可能会影响傅立叶红外的测量,或者与氧有关的热施主杂质会影响电阻率。包括样品制备在内的“分析”必须以

用于晶体硅太阳电池生产的PECVD技术进展来源:中国新能源 发布时间:2009-06-15 14:52:15

不是电极的一部分。 直接法又分成两种:   (1)管式PECVD系统:即使用像扩散炉管一样的石英管作为沉积腔室,使用电阻炉作为加热体,将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。这种设备的
。   (2)频率越低对硅片表面的损伤越严重。   (3)频率越低离子进入硅片越深,越有利于多晶硅晶界的钝化。   我们将不同频率的PECVD方法在电路控制难度的比较列于表1中。 表1 各种频率的

受国家政策影响 我国多晶硅技术进步显著来源: 发布时间:2009-06-09 09:54:59

,产量进入世界大厂行列。目前,中硅高科生产的多晶硅部分产品已达到:P型电阻率3000?cm-4800?cm,N型电阻率300?cm-480?cm,少子寿命300s-1250s,质量稳定。中硅高科
针对多晶硅生产各主要环节建立6个研究平台和1个检测中心,解决了制约多晶硅材料大规模、低单耗、高品质、清洁生产的技术瓶颈,坚持产学研结合,培养、凝聚研发人才,形成持续研发能力。检测中心建设采用国际多晶硅

宁波太阳能为扩大产能 购买8条金属镀膜生产线来源: 发布时间:2009-06-05 10:29:59

高能效太阳能电池生产的最佳产量,该金属镀膜生产线亦以提供卓越印刷精度的能力而闻名。前所未有的精度理想用于从低于100微米的集电器到电阻汇流条的涂敷,并为现今复杂的光伏挑战提供行业领先的性能。(编辑:xiaoyao)

宁波太阳能安装8条得可金属镀膜生产线扩大制造能力 来源:Solarbe.com 发布时间:2009-06-05 10:16:45

、检验和硅片翻转的解决方案。配备提供优质和高能效太阳能电池生产的最佳产量,该金属镀膜生产线亦以提供卓越印刷精度的能力而闻名。前所未有的精度理想用于从低于100微米的集电器到电阻汇流条的涂敷,并为现今复杂

新型冶金化学法生产太阳能级多晶硅来源: 发布时间:2009-05-27 10:30:36

、除磷技术、除铝技术、除铁技术、脱除其他过渡金属和重金属技术,并结合高温蒸发脱除低沸点杂质元素、和脱碳、脱氧技术,及分凝技术,实现6N级高纯硅的制备。  成果阶段:中试后期。  本技术已实现的关键技术
指标为(经国际和国内权威检测机构检测):硼0.3ppm,金属杂质0.5ppm。导电类型P 型,电阻率0.5。  本技术方法,应用于工业生产,能经过少数几个基本处理过程,实现高纯硅的制备,预期能实现太阳能