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的钝化接触，可同时降低电子和阻抗损耗。此类钝化接触层通常由超薄薄膜组合而成，因此我们认为纳米级薄膜将在太阳能电池中发挥越来越重要的作用。ALD技术可在原子层水平上控制薄膜的生长，是这类接触技术的理想

旋转。双流喷嘴采用高压高速喷射的气体冲击低俗流动的液体，破坏了液体的表面张力和液体分子之间的范德瓦尔斯键和氢键，使得液体雾化，成为纳米级的小液滴，在高压空气的作用下通过喷嘴高速喷射而出。 YTeng
清洗技术。但是由于技术方面的欠缺，导致干法清洗技术的成本较高，一直制约着其大面积的推广和发展。 3结束语随着光伏电池和半导体科技的发展，对于硅片表面洁净度的要求越来越高，达到了微米级甚至纳米级的

蠕虫状微米级腐蚀坑。酸液雾化腐蚀会在微米级腐蚀坑上继续腐蚀形成纳米级孔洞。随着腐蚀时间的增长，预腐蚀坑逐渐变浅，边缘逐渐变圆滑，孔洞的深度和直径都会增加，最后腐蚀孔洞相互连接，形成裂纹状纹路
。 2.2酸雾腐蚀对硅片反射率的影响图2中可以看出，随着腐蚀时间的增长，反射率先降低后升高。这与腐蚀形貌是有关系的。微米-纳米级复合形貌使得硅和空气之间的折射率持续性变化，能够大大降低光反射

位于新加坡国立大学(NUS)的新加坡太阳能研究所(SERIS)的研究人员宣布，他们开发出一种用于金刚线多晶硅片切割(mc-Si)后纳米级制绒的成本极低的技术。新加坡太阳能研究所指出，由于现有蚀刻
研究所湿化学技术使用专有化学物蚀刻多晶硅片表面，生成小于入射光波长的纳米级特性，这可以增强光捕获，具有实现多晶硅太阳能电池20%转换效率的潜力。新加坡太阳能研究所指出，这种电池转换效率比光伏领军制

领先地位。其中，Applied Reflexion LK Prime 化学机械研磨抛光系统(CMP)拥有出色的硅片平整抛光性能，能让FinFET及3D NAND结构的应用达到纳米级的精度。另一
硅片间的可重复性，从而满足未来器件的节点要求。凭借这些优势，LK Prime系统在控制FinFET的栅高上能使硅片上所有的器件元达到纳米级的均匀性。这是一项十分重要的工艺，因为即使是FinFET栅高的

电子元器件产业链和产业基地。适时发展硅化工产业链。依托化学级工业硅、氯碱化工和磷化工等产业优势，适时发展有机硅单体材料，引进发展纳米级有机硅防水材料，积极构建从有机硅单体到终端加工应用的硅化工产业链