光伏咨询搜索-索比光伏网

BC电池对激光加工装备的核心五大要求01、光斑尺寸大光斑尺寸大，需要强大的激光脉冲能量;02、扫描速度快扫描速度快，需要使用脉冲频率高、总功率大的激光器;03、光斑均匀性好光斑均匀性好，需要提高激光出光的质量
这种高功率带来了更强的非线性吸收，导致材料吸收深度降低，更多的激光能量使材料形成等离子体并被气化。

铁路机车装备等机械设备再制造，汽车零部件再制造167.1000万像素以上或水平视场角120度以上数字照相机及其光学镜头、光电模块的开发、制造168.办公机械（含工业用途）制造：多功能一体化办公设备（复印、打印、传真、扫描
、微生物杀菌剂、农用抗生素、生物刺激素、昆虫信息素、天敌昆虫、微生物除草剂80.废气、废液、废渣综合利用和处理、处置81.有机高分子材料生产：飞机蒙皮涂料、稀土硫化铈红色染料、无铅化电子封装材料、彩色等离子体显示屏专用系列光刻浆料

受设备性能限制，该激光器的脉冲宽度无法调节，可调节的参数仅有输出功率、扫描速率和脉冲频率，而这 3 个参数共同决定了激光脉冲的能量密度。
从图 3 可以看出，当激光器的扫描速率设置为 20000 mm/s 时，在激光器输出功率不高于 21W 的条件下，方阻值随脉冲频率的增大而减小。

支持低反射率绒面制备、等离子钝化、低温电极技术、全背结技术、适合光伏电池专用的吸杂工艺等技术的研究及应用。3.光伏组件。
提升逆变器系统安全性实时监测处理、智能故障电弧检测(AFCI)、高性能IV扫描诊断、组件级监控、快速关断(RSD)等智能化技术。

目前在太阳能光伏领域常用的钝化方法有:氢气氛退火、微波诱导远距等离子氢钝化、等离子增强化学气相沉积即PECVD法三种。
氮化硅薄膜制备设备采用德国Centrotherm公司生产的管式低频PECVD设备，利用SE400advPV型椭偏仪测试薄膜的厚度和折射率，利用WT2000设备扫描测试少子寿命，并在多晶电池产线上完成整个太阳能工艺步骤

通过扫描电子显微镜(SEM)测试，结果表明利用该装置沉积的SiO2薄膜表面平整，薄膜均匀性好，等离子体区域内不同位置沉积的薄膜均匀，能够用于大规模、大面积的工业生产。
3 表面钝化膜制备方法及动态 3.1等离子体增强化学气相沉积法 等离子体增强化学气相沉积法是利用辉光放电的物理作用来激活粒子的一种化学气相沉积反应，是集等离子体辉光放电与化学气相沉积于一体的薄膜沉积技术

在19.37%黑斑样片上，截取面积相同的2cm2cm的两小块电池片(其中一个是黑斑片)，利用布鲁克XRF荧光光谱仪扫描测试两个样片，进行对比分析，如表3所示。
分别对硅片进行单面POCl3磷扩散，等离子增强化学气相沉积(PECVD)法单面镀膜SiNx∶H钝化，以及背面电极、背面电场和正面栅线电极印刷，最后经过高温烧结形成较好的欧姆接触。

在19.37%黑斑样片上，截取面积相同的2cm×2cm的两小块电池片(其中一个是黑斑片)，利用布鲁克XRF荧光光谱仪扫描测试两个样片，进行对比分析，如表3所示。
分别对硅片进行单面POCl3磷扩散，等离子增强化学气相沉积(PECVD)法单面镀膜SiNx∶H钝化，以及背面电极、背面电场和正面栅线电极印刷，最后经过高温烧结形成较好的欧姆接触。

在19.37%黑斑样片上，截取面积相同的2cm2cm的两小块电池片(其中一个是黑斑片)，利用布鲁克XRF荧光光谱仪扫描测试两个样片，进行对比分析，如表3所示。
分别对硅片进行单面POCl3磷扩散，等离子增强化学气相沉积(PECVD)法单面镀膜SiNx∶H钝化，以及背面电极、背面电场和正面栅线电极印刷，最后经过高温烧结形成较好的欧姆接触。

利用扫描型电子显示镜（SEM）及高分辨率X线衍射技术检测生长出的GaN时，显示GaN结晶具备6角形对称称，是沿c轴方向生长的。另外，粒径要比无石墨烯时大。
然后，在该硅基板上的石墨烯上，以RF-MBE（Radio-Frequency Molecular Beam Epitaxy,射频等离子体辅助分子束外延）法使GaN结晶生长。

在分析扫描实验室，则主要对产品进行内部结构缺陷检查，看起来很薄的不锈钢芯片实际上有十几层结构，每一层结构内还有元素组分梯度变化，通过扫描电镜设备就能看到芯片横切面结构是否有异物、空洞，可以看到不同元素分布
每次实验，要花10天的时间，8公里长的不绣钢卷进入镀膜设备，经过10个腔室的高温与高功率等离子体轰击，几百个参数调节，设备也针对国产不绣钢卷的材质做了改造，要保证出来的50万片芯片都是良品;这种大型测试就进行了接近