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成本。香港小组以氢氟酸-硝酸银溶液或含有氧化剂的氢氟酸溶液(以银或其它金属为触媒)来刻蚀Si(100)的晶圆，不仅能快速制备出晶圆规模的硅纳米线，而且这种硅纳米线不需任何掺杂就具有良良好的
导电性。由于这些是半导体业界常用的方法，因此能将生产成比控制在合理的范围。李述汤表示，利用金属催化刻蚀硅晶圆有许多优点，如它能以低成本刻蚀出大面积且排列方向一致的硅纳米线阵列，而且硅纳米

200/300mm集群系统Versalis fxP，将刻蚀、CVD、PVD系统整合在同一工艺平台，提供一站式解决方案。　　据AVIZA公司PVD/CVD/刻蚀事业部营销副总裁David
Butler介绍，对于TSV研发和试产，理想的方案是拥有完成TSV所需的四大独立关键工艺步骤的成套整合工具：TSV刻蚀、CVD 衬垫、衬垫刻蚀及PVD，由于能够在一个平台上将这些工艺无缝地转移到生产环境中

在线检测技术，减少人手接触硅片、电池表面，避免了电池污染。并全面采用湿法刻蚀工艺，可将电池转换效率提高0.1%以上。使用隐性裂纹检测技术能够有效地检测出存在微裂纹电池的组件或虚焊的组件，从而大大避免组件使用过程中的烧毁、功率大幅衰减的问题，保证组件的使用寿命。

本具备太阳能电池设备整线供给能力。经多次技术换代及升级，国产的太阳能电池及组件生产线关键生产设备如硅片清洗机、8英寸扩散炉、等离子刻蚀机、PSG祛除机、低温烘干炉、高温烧结炉等相继在国内大生产线上替代了
片生产线上，属于比较成熟的设备；国产刻蚀设备距国际先进水平差距较大，产量较低，但性价比优势明显；管式PECVD工艺结果接近国际先进水平，正逐步进入大生产线，但相对于进口平板连续式PECVD设备，自动化

左右。主要厂商如下：　　中国电子科技集团第48研究所：国内太阳能电池设备的最大供应商，所生产的扩散炉、等离子刻蚀机、低温烘干/高温烧结炉、管式PECVD等占据了绝大部分国产设备市场并开始出口，单晶炉
、管式PECVD、烘干/烧结炉、清洗腐蚀制绒设备以及周边PN结刻蚀设备等代表了当今世界的最高水平。　　德国Roth&RaU公司、OTB公司、日本导津公司：平板PECVD设备国际领先。　　意大利

电池制造，它包括清洗、制绒、扩散、刻蚀、减反射膜制备、电极印刷、低温烘干、高温烧结、自动测试分捡等。　　经过数年的艰苦努力，我国光伏设备企业已基本具备太阳能电池制造整线装备能力，部分产品如扩散炉、等离子
刻蚀机等开始少量出口，可提供10种太阳能电池大生产线设备中的8种，其中有6种(扩散炉、等离子刻蚀机、清洗/制绒机、石英管清洗机、低温烘干炉)已在国内生产线占据主导地位，2种(管式PECVD、快速烧结炉

设备整线供给能力。经多次技术换代及升级，国产的太阳能电池及组件生产线关键生产设备如硅片清洗机、8英寸扩散炉、等离子刻蚀机、PSG祛除机、低温烘干炉、高温烧结炉等相继在国内大生产线上替代了进口设备，并
上，属于比较成熟的设备；国产刻蚀设备距国际先进水平差距较大，产量较低，但性价比优势明显；管式PECVD工艺结果接近国际先进水平，正逐步进入大生产线，但相对于进口平板连续式PECVD设备，自动化程度(自动

℃～450℃的热处理。该工艺同时也促进CdS/CdTe的界面扩散，减少界面的格子失配程度和钝化了薄膜的晶界势垒。但该工艺在碲化镉膜面形成了一高阻氧化层，可以用化学腐蚀或离子刻蚀去除CdTe膜面的高阻
氧化层。物理刻蚀技术废料少，容易和其他工艺环节集成，但是不易获得厚度在10nm～100nm的高质量富碲层，该层对于形成良好欧姆接触特性的背电极是非常关键的