PVD
(2m×2m)VHF-PECVD(甚高频等离子体增强化学气相沉积)系统制备高品质纳米硅基薄膜技术，结合产学研团队同步研发的PVD过渡金属掺杂的高迁移率TCO工艺，以及无种子层直接电镀工艺实现金属化技术
近日，由三一硅能装备公司研发的PECVD和PVD组建的异质结试验线，异质结电池最高效率首次突破25.29%。此次突破充分证明自研设备的工艺性能和可靠性，为三一异质结电池装备产业化奠定坚实基础。三一
异质结试验线电池效率首次突破25%，达到25.29%。后续将开发双面微晶工艺，效率有望更上一个台阶。三一硅能装备公司自研的PECVD和PVD，于2022年项目立项，在短时间内完成方案设计、制造组装、调试
要采用涂布工艺和 PVD 工艺，流程简易且适合规模化生产，设备投资额小，因此设 备、土地折旧也低于晶硅组件全产业链的折旧。不仅如此，由于钙钛矿组件重量轻，
因此也可以节约物流成本和人力成本
)钙钛矿材料，结晶，再以激光刻
出第二道槽，实现串联;3)真空镀上背电极后，第三道激光划线，第四道激光清边;前道工序就此完成。前道涂布核心设备有激光设备、真空磁控溅射镀膜(PVD)设备、
涂布
、美观”的制造理念备受关注。山西中来光能所生产的n型TOPCon电池量产转化效率可达25.5%以上。J-TOPCon
2.0首创板式PVD技术(POPAID)沉积poly层，无需额外的去绕镀工艺
。山西中来光能电池产品展示观众咨询山西中来光能电池产品中来首创安全无漏电的PVD技术，制造成本更低、良率更高、发电更安全。目前山西中来光能年产16GW高效单晶电池智能工厂项目一期首批4GW已实现量产，后续
、HJT太阳能电池PVD真空镀膜设备、全自动太阳能电池丝网印刷机等主设备以及自动上片机、红外线干燥炉、测试分选机等生产线配套设备。报告期内，迈为股份积极开发少银、无银的金属化解决方案，采取设备优化、低铟
材表面气化或电离，再沉积到基底表面形成薄膜。真空镀膜技术分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。物理气相沉积法主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。在钙钛矿层制备中，主流
，通过PVD(物理气相沉积，通常为磁控溅射技术)镀膜，然后冷却、刻蚀，完成镀膜。FTO在线镀膜技术比较成熟，设备价格较贵;ITO和
AZO 通常离线镀膜，磁控溅射技术十分成熟。叠层钙钛矿电池结构连续
水平。公司在PVD、CVD(PECVD、LPCVD等)和ALD原子层沉积等真空镀膜设备上拥有先进技术和高端装备制造经验。早在2019年11月份，捷造光电就曾宣布公司异质结电池效率达到25.11%。捷造
HJT的产业化发展。公司在湿法设备、PECVD/CAT-CVD、PVD/RPD/PAR、丝网印刷/铜电镀/新型组件焊接设备方面进行深入研究，具备HJT电池整线交钥匙工程的能力。公司近期已中标全球头部
TOPCon的核心工序，工艺路线大致分为LPCVD本征+磷扩、PECVD原位掺杂、PVD原位掺杂等。异质结电池生产流程包括材料选择、基片准备、硅片切割、链式清洗、链式吸杂、清洗制绒、PEVCD镀膜
、PVD镀膜、丝网印刷、测试分选和包装入库等步骤。其中，PEVCD镀膜和PVD镀膜是关键步骤，分别用于沉积本征非晶硅薄膜和掺杂非晶硅薄膜，以及沉积TCO透明导电氧化薄膜。由于TOPCon电池的生产流程相对
双面微晶异质结电池工厂——宣城三期的首批182电池出片最高效率便突破了25%，较宣城二期首批单面微晶210异质结电池提效近0.5%。基于宣城三期四个月以来的量产经验，宣城四期在清洗制绒、PVD、CVD
