PVD设备
氧化层并对多晶硅进行原位掺杂。这种技术路线的优点是不会产生绕镀现象，效率较高。但缺点是成本较高，而且容易出现气泡等问题。PVD原位掺杂：这种技术路线利用PVD设备，在真空条件下采用溅射镀膜，使材料沉积
48,273.47 万元，预计使用本次募集 资金 41,000.00 万元，不足部分公司将以自有资金或者通过其他融资方式解决。(二)高效电池片 PVD 设备产业化项目本项目旨在进行高效电池片用 PVD
十余项单机设备中标通知书及重复订单。这标志着公司稳步推进的HJT电池全路线全工序装备在技术和工艺上持续获得突破，广泛获得市场认可。一直以来，捷佳伟创在HJT装备研发与推广中，稳健秉承 “汇集全球
技术，服务龙头企业”
的战略，积极深入研发PECVD/Cat-CVD/RPD/PAR/PVD、印刷/铜电镀/新型组件焊接等先进技术和装备，积极推进HJT的产业化发展，为光伏新能源行业贡献力量。从HJT
层钙钛矿领域的设备销售持续放量，设备种类涵盖RPD、PVD、PAR、CVD、蒸发镀膜及精密狭缝涂布、晶硅叠层印刷等。公司在钙钛矿及钙钛矿叠层MW级量产型整线装备的研发和供应能力，获得了越来越多客户的
4.8GW采用最新的双面微晶量产异质结电池片生产线，是目前行业内最大规模的HJT电池工厂。该项目在集合异质结电池生产工艺特性的基础上，择优性价比更高的210规格硅片、CVD搭载双面微晶设备、PVD采用
4.8GW采用最新的双面微晶量产异质结电池片生产线，是目前行业内最大规模的HJT电池工厂。该项目在集合异质结电池生产工艺特性的基础上，择优性价比更高的210规格硅片、CVD搭载双面微晶设备、PVD采用
开发硅异质结太阳电池核心工艺专机(清洗制绒设备、PECVD设备、PVD设备和丝网印刷设备)展开。合作双方发挥各自优势，联合开发光伏设备，并共建光伏设备实验室，推动光伏技术应用研发和产业化。在仪式上
研发主任彭宜昌博士PVD在异质结中的应用已非常成熟，在钙钛矿方面，主要用于空穴传输层及背电极薄膜的沉积。其特点是靶材利用率高，单次维护间隔时间长，产能大，配合防溅射损伤的措施，最具性价比的设备类型，符合
未来钙钛矿量产的需求。扫描式磁控溅射PVD设备占地面积小，适合实验室及中试线产品开发;可兼容不同种类靶材、低、高温及溅射损伤工艺;同时，采用模块化设计，也具有量产设备解决方案。目前来看，在钙钛矿生产
别的厚度。这对于激光划线的设备的精度提出了更高的要求。除此之外，还有像PVD镀膜，现在我们能看到有一些实验室也在引入ALD的沉积，这些都有它各自的难点。钙钛矿目前还是制造商先提要求，设备供应商来完成见智研究
制备工艺包括溶液涂布法和真空镀膜法。溶液涂布法成本低、设备兼容度高、原料利用率高，但大面积均匀性不易控制、对基底平整度要求高。真空镀膜法均匀性控制好、对基底平整度要求低，但原料利用率较低、成本高、生产
速度慢、设备兼容度低。溶液涂布法和真空镀膜法对比资料来源：《大面积钙钛矿薄膜涂布技术与钙钛矿太阳能模组研究》，公司公告，公司官网，中金公司研究部溶液涂布溶液涂布法原料利用率较高，设备成本相对较低，但均匀
