CVD
扩产计划，国内薄膜太阳能电池企业的大幅扩产也将拉动TCO 玻璃需求高增长。
在线镀膜优势明显
在线TCO 镀膜玻璃的镀膜技术采用的是化学气相沉积法（CVD 法），侯英兰表示，化学气相沉积法
是目前世界上主要生产在线镀膜玻璃的方法，在浮法玻璃生产线的锡槽的长度方向上选择符合生产工艺要求的温度区，插入多个镀膜反应器进行镀膜。
化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积
氯化反应、SDR(TM)CVD反应器、硅芯生产以及多晶硅处理等。目前，Cosmos Chemicals Berhad正在为项目筹措最终融资。项目进展取决于这一步骤的完成，GT预期项目将分阶段开展，接获
供应协议，将向一间位于马来西亚沙捞越、多晶硅年产量达25,000公吨的多晶硅工厂提供设备及技术。
GT将提供全套多晶硅生产设备及技术，包括工程服务、氢氯化反应、SDR(TM) CVD反应器、硅晶
生产以及多晶硅处理予该客户。
Cosmos Chemicals新建的多晶硅工厂一旦投入运营，将采用GT高容量的氢氯化反应解决方案，透过将单一氢氯化反应流化床反应器与GT最新的TCS西门子CVD
Development Company(PMD)资助。根据协议条款（受融资限制），GT将提供全套多晶硅生产设备及技术，包括工程服务、氢氯化反应、SDR(TM)CVD反应器、硅芯生产以及多晶硅处理等。目前
投入运营，将采用GT高容量的氢氯化反应解决方案，通过将单一氢氯化反应流化床反应器与GT最新的TCS西门子CVD反应器结合，可产生足够的TCS以支持年产量超过10，000公吨的多晶硅生产。这种结合最大限度的降低了设备的资本支出，并通过减少多晶硅工厂的能源消耗降低运营成本。
高纯度硅。硅烷法可以分为两类，较早出现的是硅烷西门子法(SilaneSiemens)，即用硅烷(SiH4)而非TCS作为CVD还原炉的原料，通过硅烷(包括副产品SiH2Cl2，下文简称DCS)的热分解
& Development Company (PMD)资助。 根据协议条款（受融资限制），GT将提供全套多晶硅生产设备及技术，包括工程服务、氢氯化反应、SDR(TM) CVD反应器、硅芯生产以及多晶硅处理等。目前
生产能力。
新建的多晶硅工厂一旦投入运营，将采用GT高容量的氢氯化反应解决方案，通过将单一氢氯化反应流化床反应器与GT最新的TCS西门子CVD反应器结合，可产生足够的TCS以支持年产量超过
。 应用材料公司中国区总裁张天豪先生和平板显示CVD产品事业部总经理肖劲松先生，将分别在3月19号举办的中国设备市场论坛和中国平板显示会议开幕主题演讲中进行发言，探讨行业未来发展面临的机遇和挑战，及应用材料
反应系统，结合使用单一氢氯化反应流化床反应器与GT最新的TCS西门子CVD反应器，该系统可以产生足够的TCS以支持超过10000MT的多晶硅年产量。结合后，GTAT称，该技术提供先进的低成本多晶硅生产
表示，该多晶硅厂将启动其高产量氢氯化反应系统，结合使用单一氢氯化反应流化床反应器与GT最新的TCS西门子CVD反应器，该系统可以产生足够的TCS以支持超过10000MT的多晶硅年产量。结合后，GTAT
情况，根据协议条款，GT将提供全套的多晶矽产品设备和技术，包括工程服务、氢氯化反映、SDR CVD反应堆、灯丝产品和多晶矽处理。目前Cosmos Chemicals Berhad 正在为该项目获得最后一笔融资。视完成这一步而定，GT预计该项目分阶段完成，首先是工程工作试车，随后是设备订单。
