CVD

开发异质结电池PECVD设备。并且，由于HJT电池产线需要用到的CVD(化学气相沉积)设备和PVD设备，相关设备已在其他领域进行应用，要拿来应用到异质结电池生产上不会有太大的技术难度。 虽然设备的
沉积法，设涉及PECVD和Cat-CVD，对设备有所要求;三是TCO膜制备，PVD所使用的的靶材生产企业较多，且基本不受专利限制，因此企业多采用PVD方式成膜;四是丝网印刷，HJT电池成本中占比较大的

+团队技术经验丰富将保障项目的顺利实施。 2. PVD设备积极布局，致力于提供HIT光伏电池技术整线解决方案 HIT四大步骤对应的设备分别为清洗设备、CVD设备、PVD设备、丝网印刷设备。某电池片设备

理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称理想晶延)近日披露的辅导信息显示，公司将赴科创板上市。 理想晶延成立于2013年，其是一家以CVD(化学气相沉积)技术为核心，覆盖半导体及泛半导体

。 HIT 电池产线所需设备包括制绒清洗设备PECVD/HWCVD 设备沉积非晶硅薄膜RPD/CVD 设备沉积 TCO 薄膜丝网印刷设备自动分选机。 非晶硅薄膜沉积设备和 TCO 薄膜沉积设备
PECVD/HWCVD 设备技术壁垒较高，目前以 Ulvac/MB/AMAT/Jusung 等国外设备为主。TCO 薄膜沉积环节的 RPD/CVD 设备目前同样以国外设备为主，主要供货商包括

，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜。PECVD方法区别于其他CVD
方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子，它们可以提供化学气相沉积过程所需的激活能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程，生成活性很高的各种化学基团，因而显著降低CVD

、离子镀、RPD反应离子沉积等)、CVD(PECVD、LPCVD等)和ALD原子层沉积等真空镀膜设备上拥有先进技术和高端装备制造经验，形成工艺研究设备、规模化产线设备系列化产品，广泛应用于光伏、半导体、显示、纳米科技、化工、制药等领域，并拥有GW级光伏电池产线核心技术和设备制造经验。

。 非晶硅镀膜： 异质结技术核心步骤，梅耶博格、理想能源、美国应材为当前主要供应商。非晶硅镀膜是异质结技术的关键。当前的主流技术为 PECVD 技术路线，不过 CAT-CVD 和 ALD 也在被推广

除供应优质丝网印刷设备外，也在研发并验证CVD设备，致力于为客户提供HJT整线解决方案。2018年11月17日至2019年11月16日，迈为股份与通威系签订的日常经营合同累计金额为4.17亿元，占

。需要从非晶硅界面钝化、TCO 光吸收损失、金属化电阻损耗三方面进行努力，对应的工艺流程为 CVD、PVD、丝印三个步骤。这个三大难点克服，不仅仅是工艺的问题，还涉及到设备和材料的配套和改进

将对中国输美太阳能电池展开反倾销和反补贴双反调查。 2012年10月，美国商务部宣布对从中国进口的光伏组件征收第一轮反倾销和反补贴税(AD/CVD)，税率34%至47%。 2014年1月，美国