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美国公共土地首个太阳能项目开始并网发电来源: 发布时间:2012-05-14 11:22:59

并网发电。该项目隶属加拿大能源企业安桥公司(Enbridge),位于内华达州拉斯维加斯以南64公里,采用了薄膜光伏技术,装机容量高达50兆瓦,可为大约9000户当地居民提供电力。北银州项目在建设的高峰期
全美清洁能源经济的最前沿。该项目经过了全面的环境分析和公众评议,充分利用当地充沛的太阳能,采取了碳足迹最小的光伏技术,每年可减少二氧化碳排放4.2万吨,相当于道路上减少8000辆汽车。项目选址靠近一个

安桥与First Solar内华达州50MW光伏项目完工来源:solarbe.com 发布时间:2012-05-08 13:32:11

太阳能项目真正的站在了我们国家的清洁能源经济的前列。我为所有为之努力使之成为现实的人们喝彩,其中包括土地管理局、内华达州、以及First Solar和安桥。 安桥公司的总裁Al Monaco
表示:尽管传统能源还将伴随我们很长时间,但是很显然,随着时间的推移,我们正在过渡到一个相对的低碳经济中。为此,安桥公司已在风能、太阳能、地热、废弃物热回收、燃料电池和其他替代能源技术的项目中共投资30

列数各类高效晶硅太阳能电池来源:OFweek 发布时间:2012-05-07 10:55:18

晶硅电池在过去20年里有了很大发展,许多新技术的采用和引入使太阳电池效率有了很大提高。在早期的硅电池研究中,人们探索各种各样的电池结构和技术来改进电池性能,如背表面场,浅结,绒面,氧化膜钝化,Ti
硅电池的一个重要进展来自于表面钝化技术的提高。从钝化发射区太阳电池(PESC)的薄氧化层(<10nm)发展到PCC/PERC/PER1。电池的厚氧化层(110nm)。此外,表面V型槽和倒金字塔技术

列数各类高效晶硅太阳能光伏电池来源: 发布时间:2012-05-07 09:06:56

索比光伏网讯:晶硅光伏电池在过去20年里有了很大发展,许多新技术的采用和引入使太阳能光伏电池效率有了很大提高。在早期的硅电池研究中,人们探索各种各样的光伏电池结构和技术来改进电池性能,如背表面场,浅
结果。近年来硅电池的一个重要进展来自于表面钝化技术的提高。从钝化发射区太阳电池(PESC)的薄氧化层(<10nm)发展到PCC/PERC/PER1。电池的厚氧化层(110nm)。此外,表面V型槽和倒

光伏电池背表面钝化技术成新宠来源: 发布时间:2012-04-27 09:39:59

(backsidepassivation),太阳能业者解释,该技术主要是将AL2O3薄膜作为P型太阳能光伏电池背面钝化膜或N型电池正面,主要目的就是让阳光在电池中产生的电子及电动可安全的到达电路,而不是像其它技术般又双双

"聚光太阳电池关键技术”课题正式执行来源: 发布时间:2012-04-25 14:08:59

由天津蓝天太阳科技有限公司承担的国家863课题兆瓦级高倍聚光化合物太阳电池产业化关键技术于2011年底完成与国家科技部的合同签定和课题任务书签定工作,并于2012年进入正式执行阶段。天津蓝天太阳科技
有限公司具备坚实的太阳电池技术研究基础,产品覆盖电池外延、接收器、聚光组件和光伏系统,是目前国内唯一一家覆盖光伏行业全产业链的公司。公司研制的GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池AM0下光

太阳能光伏电池金属背部钝化层技术蓄势待发来源: 发布时间:2012-04-24 12:01:42

钝化层(backsidepassivation),太阳能业者解释,该技术主要是将AL2O3薄膜作为P型太阳能光伏电池背面钝化膜或N型电池正面,主要目的就是让阳光在电池中产生的电子及电动可安全的到达电路
索比光伏网讯:太阳光电景气虽在低档期,但也被视为是正值技术研发、练功的黄金期,近期两岸业者关注的技术焦点之一,即是近1年来国际诸多设备业者陆续计划推出的金属背部钝化层

太阳能光伏电池 金属背部钝化层技术蓄势待发来源: 发布时间:2012-04-24 11:08:21

钝化层(backside passivation),太阳能业者解释,该技术主要是将AL2O3薄膜作为P型太阳能光伏电池背面钝化膜或N型电池正面,主要目的就是让阳光在电池中产生的电子及电动可安全的到达
索比光伏网讯:太阳光电景气虽在低档期,但也被视为是正值技术研发、练功的黄金期,近期两岸业者关注的技术焦点之一,即是近1年来国际诸多设备业者陆续计划推出的金属背部钝化层(backside

太阳能金属背部钝化层技术来源:黄女瑛 发布时间:2012-04-23 23:59:59

索比光伏网讯:两岸业者近年来关注提升转换效率的新技术之一,即是金属背部钝化层(Backside Passivati​​on),该技术主要就是将AL2O3薄膜,作为P型太阳能电池背面钝化膜,或N型电池

太阳能硅片的化学清洗技术来源: 发布时间:2012-04-19 17:31:58

=HCL+H2O2+D1.H2O1:1:6去金属离子Al、Fe、Ni、Na等如再结合使用双面檫洗技术可进一步降低硅表面的颗粒沾污。四.新的清洗技术A.新清洗液的开发使用1).APM清洗a.为抑制SC-1时