ALD设备
渗透率的快速提高给公司核心设备ALD订单提供了市场空间保障。其次，在光伏领域，公司逐步拓展产品矩阵，积极布局TALD、PEALD/PECVD二合一设备、PECVD、扩散退火设备、TOPCon整线
3月19日，连城数控官方公众号发布消息称，子公司艾华(无锡)半导体科技有限公司(以下简称“艾华半导体”)最新中标行业龙头客户20GW新型TOPCon电池ALD设备全部订单。维科网光伏注意到，艾华
已经超过50GW。捷佳伟创相关负责人透露，2023年一季度已获得约百GW的TOPCon电池设备订单，已接近去年大半年的水平。本次，连城数控子公司艾华半导体中标行业龙头客户20GW新型TOPCon电池ALD设备全部订单。再次反映出TOPCon电池的火爆，同时也是连城数控超前布局的回报。
中，ALD还是不可缺少的设备。作为一项沉积高质量膜层的技术，ALD设备具有产生致密、保形、几乎无针孔层的能力，非常适合钙钛矿太阳能电池的制备。ALD沉积的SnO2除了作为正置结构中的电子传输层之外，还可
别的厚度。这对于激光划线的设备的精度提出了更高的要求。除此之外，还有像PVD镀膜，现在我们能看到有一些实验室也在引入ALD的沉积，这些都有它各自的难点。钙钛矿目前还是制造商先提要求，设备供应商来完成见智研究
需求。根据不同的钝化层材料方案，初步来看大面积选用涂布机制备钝化层;若用盐类材料做修饰层则可能选用蒸镀设备;若用金属氧化物则可能选用RPD或者ALD设备。另一方面，传输层真空镀膜路线亦有诸多变种。背电极
有限公司(简称“微导纳米”)成立于2015 年12 月，是一家面向全球的高端设备制造商。公司以原子层沉积(ALD)技术为核心，专注于先进微米级、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产与应用。公司业务涵盖集成电路
产品可以用在TOPCon电池哪些环节?公司ALD设备可用于正面Al2O3钝化层的制备，PECVD设备可用于正反面的SiNX薄膜制备，PEALD/PECVD二合一设备可用于背面超薄隧穿氧化层(SiO2
于2015 年12 月，是一家面向全球的高端设备制造商。公司以原子层沉积(ALD)技术为核心，专注于先进微米级、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产与应用。公司业务涵盖集成电路、光伏、LED、MEMS 等
全自动ALD钝化设备及PE-Poly设备，合同金额总计人民币45,180.00万元整(含13%增值税)，占公司2021年度经审计营业收入的105.58%。2023年7月30日前，将全部设备交至四川省眉山市
制造商。公司以原子层沉积(ALD)技术为核心，专注于先进微米级、纳米级薄膜沉积设备的研发、生产与应用。公司业务涵盖集成电路、光伏、LED、MEMS
等半导体相关领域，以及新能源和柔性电子领域
;主要产品为应用于逻辑芯片、存储芯片、硅基微显示和3D 封装等半导体及泛半导体ALD
设备和技术，以及应用于柔性电子、新一代高效太阳能电池的薄膜设备和量产解决方案。2019年-2021年，微导纳米分别实现
