ALD设备

和验证阶段;待进入第二阶段，核心设备的供应商仍是海外厂商，但 凭借良好的产品性价比，国内设备厂商崭露头角，国产的 PECVD、ALD 和激光开槽设备逐 步获得了市场的认可;到了第三阶段，国产设备成为

该激光消融设备中，532nm激光从激光器输出后，先经过两路全反射镜反射，再经过扩束镜、手动光阑后输入激光扫描振镜、聚焦透镜，最后输出经过聚焦后的激光。 2. 激光经过1号反射镜，让其传输方向改变90
可以保证激光传输过程中功率损耗降到最小)通过2号反射镜后的激光，经过扩束镜中心输出，直至扫描振镜输入端中心输入。 4. 设备运行一段时间后，需要打开防护盖板，确认反射镜、扩束镜、光阑固定螺丝是否松动

Tempress。新设备进展方面，近期微导研发的全球首台适用于 TOPCon 技术的 ALD 设备正式进入量产阶段，产品 已交客户使用。据公司官方微信显示，该镀膜平台(祝融系列)兼容 PERC 与

、离子镀、RPD反应离子沉积等)、CVD(PECVD、LPCVD等)和ALD原子层沉积等真空镀膜设备上拥有先进技术和高端装备制造经验，形成工艺研究设备、规模化产线设备系列化产品，广泛应用于光伏、半导体、显示、纳米科技、化工、制药等领域，并拥有GW级光伏电池产线核心技术和设备制造经验。

, 并为新能源、柔性电子、半导体和纳米技术等多个工业领域的产业化生产提供整体解决方案。微导在短时间内，成功开发出用于光伏、柔性电子、半导体、LED和MEMS等工业的ALD和RIE产业化设备，产品具有国际先进水平。 微导的使命是通过尖端技术和不断创新促成我们客户的先进产品和市场先机。

近日，江苏微导纳米科技股份有限公司宣布其研发的全球首台适用于TOPCon技术的ALD设备正式进入量产阶段。 微导研发的祝融系列(ZR4000X2)薄膜沉积设备平台，用于Topcon电池生产
设计理念。平台能很好地与目前量产PERC工艺兼容，技术首次通过一台设备完成三种工艺，相对于传统LPCVD设备沉积技术，将大幅改善N型电池正面多晶硅绕度面积与掺杂多晶硅镀膜速率降低的影响。设备兼容性还体现

江苏微导纳米科技股份有限公司研发的全球首台适用于TOPCon技术的ALD设备正式进入量产阶段。微导研发的祝融系列(ZR4000X2)薄膜沉积设备平台，用于Topcon电池生产技术，产品已交用户使用
能很好地与目前量产PERC工艺兼容，技术首次通过一台设备完成三种工艺，相对于传统LPCVD设备沉积技术，将大幅改善N型电池正面多晶硅绕度面积与掺杂多晶硅镀膜速率降低的影响。设备兼容性还体现于硅片尺寸

浆料。 3) 检测设备：膜厚测试设备SE400 椭偏仪、D8-4 积分反射仪、少子寿命测试仪WT-2000、JJ224BC 电子天平、蔡司Axio Scope A1 显微镜、Gemini
Sigma 300 SEM 场发射扫描电镜、I-V 测试设备Berger PSS10。 1.2 制备流程 采用氧化铝浆料制备黑硅PERC 多晶太阳电池的工艺流程为：①黑硅制绒②扩散③刻蚀去PSG ④背面

。 高转换效率有望持续降低度电成本，提高制造业核心竞争力。光伏发电最终以实现平价上网为目标，产业降本是必经之路。成本优势的主要来源包括： 1)设备或辅材、能源等设备的价格优势：主要依赖于设备