450mm
工序之间进行整合，创新多合一设备以实现降本。目前，捷佳伟创钙钛矿相关整线产品有三类。第一类是钙钛矿电池研发线(450mm*650mm基板)，可以制造单结电池，也可以制造叠层电池。第二类是百兆瓦钙钛矿
了33.9%，一年的时间，有1.5%绝对效率的推升。整体技术的发展，捷佳伟创希望扮演什么角色?我们一如既往，不忘初心，持续做全线发展。我们会提供三种设备架构。1、钙钛矿电池研发线(450mm×650mm
超能瓦。两种瓦均采用模块化、一体化、便捷化、标准化的设计理念，其中叠加式超能瓦产品尺寸1817mm*420mm，重6.7公斤，平铺式超能瓦产品尺寸1228mm*450mm，重5.5公斤，两者均采用
156.75mm提高到166mm对于内径450mm的PECVD来说并无障碍。硅料建议采用菱形插片设计，能够兼容156mm和166mm大硅片。 对于电池环节的丝网印刷机，硅片尺寸的增大势必会加大印刷行程，M2升级为
最小直径为450mm，而硅片边距166mm，这就需要在牺牲产能的情况下兼容M6硅片，同时在工艺要求范围内把设备本体设计升级。
深圳捷佳伟创新能源装备股份有限公司(以下简称：捷佳伟创)的总经理李时俊对此
炉的情况有些不同，由于石墨舟分为立式和卧式两种，因此只需硅片边距小于PECVD炉管内径即可，将硅片边距由156.75mm提高到166mm对于内径450mm的PECVD来说并无障碍。
王玉明认为，提升
2021年,建立1家国家级企业技术中心或工程技术研究中心,12家省级企业技术中心或工程技术研究中心;积极进行高纯多晶硅、大尺寸单晶硅、300mm和450mm大尺寸单晶硅片、高端有机硅深加工产品等方面
ALC-PECVD设备采用的CVD托盘尺寸是1,150mm1,450mm，如图2.所示，在整面的托盘上放置平面基板，镀8nm厚的膜层均匀性可以达到3.3%，整个托盘面积上的膜厚均匀性对于高产能的批量生产
1,150mm1,450mm托盘上制备的膜层厚度不均匀性低于3.3%，以及在5个连续运行批次内厚度不均匀性仍可保持在4.2%以内。结合精曜科技的ALC-PECVD工艺和RPD镀高载流子迁移率的TCO膜层以及
PECVD设备采用的是1,150mm1,450mm 的CVD托盘，而在整个托盘上器件的iVoc均匀性可以达到0.28%。整个托盘上的器件均匀性对于高产能的批量生产至关重要。另外，从图3可以发现，优异的均匀性
潜在开路电压（iVoc）值和iVoc均匀性；(b) 1,150mm1,450mm PECVD 托盘上5个点位置的器件iVoc值和iVoc均匀性； (c) 连续运行6个批次所得器件的iVoc平均值和均匀性
（iVoc）测试结果如图3所示，优异的钝化效果使得在6英寸的绒面CZ硅片上得到了平均值为735mV的iVoc，并且iVoc均匀性为0.61%。精曜的ALC PECVD设备采用的是1,150mm1,450mm
光伏系统所计算出的相对于P型多晶组件的LCOE比例
(a) 6英寸硅片上5个点位置的潜在开路电压（iVoc）值和iVoc均匀性；(b) 1,150mm1,450mm PECVD 托盘上5个点位置
ALC PECVD设备采用的是1,150mm1,450mm 的CVD托盘，而在整个托盘上器件的iVoc均匀性可以达到0.28%。整个托盘上的器件均匀性对于高产能的批量生产至关重要。另外，从图3可以发现
