超薄玻璃标准

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2015年天合光能大事记来源:索比光伏网 发布时间:2015-12-15 13:21:17

,天合光能主导的超薄玻璃SEMI国际标准正式发布,标准编号为SEMI PV63-0215。成为首个针对光伏组件用超薄玻璃的全球标准。 4月,在上海SNEC PV POWER EXPO 国际太阳能光伏

SEMI中国光标委首次发布3项中文版光伏标准来源:世纪新能源网 发布时间:2015-11-24 23:59:59

PV63-0215 Specification for Ultra-thin Glasses Used for Photovoltaic Modules/光伏组件用超薄玻璃规范由天合光能牵头编制最后核心委员投票决定2016年春季会议将于3月15日在上海浦东嘉里酒店举行。

3项中文版光伏标准发布 中国话语权杠杠的!来源:SEMI China 发布时间:2015-11-24 08:49:05

     SEMI PV63-0215 Specification for Ultra-thin Glasses Used for Photovoltaic Modules/光伏组件用超薄玻璃规范由天合光能牵头编制      最后核心委员投票决定2016年春季会议将于3月15日在上海浦东嘉里酒店举行。

【重磅】3项中文版光伏标准发布 中国话语权杠杠的!来源: 发布时间:2015-11-24 01:12:59

for Ultra-thin Glasses Used for Photovoltaic Modules/光伏组件用超薄玻璃规范由天合光能牵头编制最后核心委员投票决定2016年春季会议将于3月15日在上海浦东嘉里酒店举行。

超低损耗 超抗PID 英利新型双玻组件增加20%额外收益来源:世纪新能源网 发布时间:2015-10-22 23:59:59

索比光伏网讯:30年超长质保、每年小于0.5%的线性功率损失由英利集团自主研发的新型双玻组件具有超薄超轻、更具绝缘性、超抗PID等优点。与传统双玻组件25年质保期、每年0.7%的线性功率损失相比
,英利新型双玻组件能给客户带来20%以上的额外收益。 新型双玻组件采用两层0.85毫米化学钢化玻璃,60片电池组件(1658*995)总重量仅为9.5公斤,总厚度不到3毫米,不仅大大降低了组件的包装成本和

德国研发新型ZEBRA IBC组件 效率超21.2%!来源:OFweek 太阳能光伏网 发布时间:2015-10-20 15:13:55

组件尺寸为1647 x985平方毫米包括框架在内,比标准60片6英寸电池组件偏小。在生产过程中使用的消耗品包括:市售太阳能电池背板、前端封装200微米超薄封装、用于标准MWT组件制造的低银导电胶、和

效率超21.2%!德国研发新型ZEBRA IBC组件来源: 发布时间:2015-10-20 10:13:59

x985平方毫米包括框架在内,比标准60片6英寸电池组件偏小。在生产过程中使用的消耗品包括:市售太阳能电池背板、前端封装200微米超薄封装、用于标准MWT组件制造的低银导电胶、和3.2毫米ARC镀膜

超低损耗 超抗PID 英利新型双玻光伏组件增加20%额外收益来源:索比光伏网 发布时间:2015-10-08 16:30:46

30年超长质保、每年小于0.5%的线性功率损失由英利集团自主研发的新型双玻组件具有超薄超轻、更具绝缘性、超抗PID等优点。与传统双玻组件25年质保期、每年0.7%的线性功率损失相比,英利新型双玻组件
能给客户带来20%以上的额外收益。 新型双玻组件采用两层0.85毫米化学钢化玻璃,60片电池组件(1658*995)总重量仅为9.5公斤,总厚度不到3毫米,不仅大大降低了组件的包装成本和运输成本

【综述】太阳能电池介绍来源:价值中国 发布时间:2015-09-09 12:01:16

简单。随着电池向大尺寸、超薄化方向发展以及低的表面杂质浓度(表面方块电阻80~120/口、均匀性3%以内),减压扩散技术(LYDOP)优势非常明显,工艺中低的杂质源饱和蒸气压、提高了杂质的分子自由程
不理想。 SixNy膜层不仅减缓浆料中玻璃体对硅的腐蚀抑制Ag的扩散速度从而使后续快烧工艺温度范围更宽易于调节,而且致密的SixNy膜层是有害杂质良好的阻挡层。同时生成的氢原子对硅片具有表面钝化与体

太阳能电池介绍来源:价值中国 发布时间:2015-09-07 16:06:49

简单。随着电池向大尺寸、超薄化方向发展以及低的表面杂质浓度(表面方块电阻80~120/口、均匀性3%以内),减压扩散技术(LYDOP)优势非常明显,工艺中低的杂质源饱和蒸气压、提高了杂质的分子自由程
想。 SixNy膜层不仅减缓浆料中玻璃体对硅的腐蚀抑制Ag的扩散速度从而使后续快烧工艺温度范围更宽易于调节,而且致密的SixNy膜层是有害杂质良好的阻挡层。同时生成的氢原子对硅片具有表面钝化与体钝化