膜生产

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山东光伏电站项目建设参考来源:阳光工匠光伏网作者:王淑娟 发布时间:2015-03-13 23:59:59

所列价格,除农业生产用电外,均含可再生能源电价附加,其中:居民生活用电0.1分钱,其他用电0.8分钱。4.农业排灌、抗灾救灾、中小化肥生产用电,按上表所列分类电价降低2分钱农网还贷资金执行;采用离子膜法

光伏企业连连看 技术路线哪家强?来源: 发布时间:2015-03-12 08:55:59

标的可供扒拉?五天涨幅近50%的哈高科风光无限,源自于持股31%杭州普尼太阳能,其CIGS膜发电技术实验室转化率最高21.1%。世界上首条铜铟镓硒(CIGS)一次性溅射成型膜太阳能电池生产线落户的广东

贺利氏携手昭荣化学 加强导电浆料知识产权地位来源:美通社 发布时间:2015-03-10 09:48:16

。这两项专利的优先权日为2009年10月28日。与昭荣化学工业之间共有专利权的形成让贺利氏在含碲玻璃(934,-15.00,-1.58%)浆料的开发、生产和使用领域拥有了强大的知识产权地位。除台湾之外
产品带来增加值的技术。与昭荣化学工业的合作能够帮助贺利氏加强其厚膜和光伏浆料组合,从而为客户打造更出色的产品。贺利氏将延续其为推进光伏产业发展而进行投资、创新,技术开发和合作的传统。贺利氏技术投资的

贺利氏加强导电浆料知识产权地位来源:美通社 发布时间:2015-03-10 08:14:37

专利的优先权日为2009年10月28日。与昭荣化学工业之间共有专利权的形成让贺利氏在含碲玻璃(934, -15.00, -1.58%)浆料的开发、生产和使用领域拥有了强大的知识产权地位。除台湾之外,这些
Liebheit说:我们的目标是开发和拥有能为客户的产品带来增加值的技术。与昭荣化学工业的合作能够帮助贺利氏加强其厚膜和光伏浆料组合,从而为客户打造更出色的产品。贺利氏将延续其为推进光伏产业发展而进行投资、创新

2015第七届广州国际太阳能光伏展览会来源:索比太阳能光伏网 发布时间:2015-03-09 14:27:47

设备、检测设备、其它相关设备; 电池生产设备:生产线、蚀刻设备、扩散炉、覆膜设备/沉积炉、印刷机、测试仪和分选机等; 电池板/组件生产设备:全套生产线、测试设备、玻璃清洗设备、结线/焊接设备、层压

贺利氏加强太阳能电池导电浆料知识产权地位来源:世纪新能源网 发布时间:2015-03-08 23:59:59

TWI432539专利来增强其用于开发太阳能电池导电浆料的技术组合。这两项专利的优先权日为2009年10月28日。与昭荣化学工业之间共有专利权的形成让贺利氏在含碲玻璃浆料的开发、生产和使用领域拥有了强大的
说:我们的目标是开发和拥有能为客户的产品带来增加值的技术。与昭荣化学工业的合作能够帮助贺利氏加强其厚膜和光伏浆料组合,从而为客户打造更出色的产品。贺利氏将延续其为推进光伏产业发展而进行投资、创新

亚玛顿:减反膜销售超预期 光伏电站投资带动双玻组件来源:中投证券 发布时间:2015-02-28 12:52:02

投资要点: 14年减反膜销售超预期支撑收入增长,但利润率继续下行。2014年全球不中国光伏装机容量明显提升,行业好转带动公司减反膜出货量也超出预期,其中四季度表现最好,我们估计14年销量
增长幅度约20%左右,这是公司收入增长22.9%的主要原因。不过因竞争激烈且14年日本市场订单受影响,净利率由13年的8.8%降至4.5%,目前盈利已处在底部。 四季度表现好于预期,15年减反膜预计

亚玛顿:减反膜销售超预期 电站投资带动双玻组件来源:中证网 发布时间:2015-02-28 12:15:30

索比光伏网讯:投资要点:2014年减反膜销售超预期支撑收入增长,但利润率继续下行。2014年全球不中国光伏装机容量明显提升,行业好转带动公司减反膜出货量也超出预期,其中四季度表现最好,我们估计14
年销量增长幅度约20%左右,这是公司收入增长22.9%的主要原因。不过因竞争激烈且14年日本市场订单受影响,净利率由13年的8.8%降至4.5%,目前盈利已处在底部。四季度表现好于预期,15年减反膜预计

亚玛顿:减反膜销售超预期 电站投资带动双玻光伏组件来源:中证网 发布时间:2015-02-27 08:32:09

  投资要点: 14年减反膜销售超预期支撑收入增长,但利润率继续下行。2014年全球不中国光伏装机容量明显提升,行业好转带动公司减反膜出货量也超出预期,其中四季度表现最好,我们估计14年销量
增长幅度约20%左右,这是公司收入增长22.9%的主要原因。不过因竞争激烈且14年日本市场订单受影响,净利率由13年的8.8%降至4.5%,目前盈利已处在底部。 四季度表现好于预期,15年减反膜

高效硅基异质结太阳能电池量产的关键因素来源:Shine Magazine/光能杂志 发布时间:2015-02-25 11:10:48

ALC-PECVD设备采用的CVD托盘尺寸是1,150mm1,450mm,如图2.所示,在整面的托盘上放置平面基板,镀8nm厚的膜层均匀性可以达到3.3%,整个托盘面积上的膜厚均匀性对于高产能的批量生产