硅片清洗技术

　　最近十年世界太阳能电池产量平均增长率为40%，最近五年平均增长率为45.4%，最近三年的平均增长率超过50%，光伏产业已成为世界发展最快的高新技术产业之一。而设备作为其支撑，对光伏产业的发展起到
(工业硅，99%纯度)—高纯硅(6N或以上纯度)—单晶硅或多晶硅—硅片—电池—组件—应用产品，设备是基础和支撑，贯穿了所有环节。 　　除前道的材料提纯、硅片加工和后道的组件生产外，最关键的工序为

国际上太阳能光伏市场的发展给太阳能设备制造企业带来了很大的商机，太阳能光伏前期制造设备中硅单晶炉、多晶硅铸造炉、切断机床、切方滚磨机床、多线切片机、清洗设备、甩干机等一系列的设备，太阳能电池片后期
专用的自动化设备，可以达到现在的技术要求。三是国外的自动化设备，完全达到目前的技术要求。我们希望不管是大企业还是小企业都应不断的提高精度和质量，使用更好的专业化设备。 由于加工的工艺不同，使用的设备

设备整线供给能力。经多次技术换代及升级，国产的太阳能电池及组件生产线关键生产设备如硅片清洗机、8英寸扩散炉、等离子刻蚀机、PSG祛除机、低温烘干炉、高温烧结炉等相继在国内大生产线上替代了进口设备，并

，硅片清洗、加工以及太阳能电池组件封装的技术门槛较低。依靠国内大量低廉的劳动力，这个环节的产业发展最为迅速，中国已经有各种光伏企业超过500家，其中6家公司先后在海外上市。然而，在生产企业和生产规模继续

工艺技术、产品质量都得到了长足的进步：部分替代进口，而且批量出口，国产坩埚在国际市场争得了一席之地。但是应该看到，国产石英坩埚与国外高品质的石英坩埚在工艺技术和产品性能方面还有一定的距离
、T、Zr等指标，而且GE的指标相对要求也高一些。外观包括触痕、裂纹、划伤、凹坑、表面附着物和沾污、斑点和失透点、气泡、波纹等，每一种缺陷都给出了定义和控制限度。由于引进了国外先进的工艺技术，在缺陷

/张永安 硅片自动化清洗技术与装备 10:40-11:00 深圳珈玮实业有限公司 丁孔贤 董事长 光伏组件的质量控制 11:00-11:20 南开大学光电子研究所 耿新华

； 　　　　　　　　精抛：主要作用改善晶片表面的微粗糙程度，一般去除量1um以下 　　主要原料：抛光液由具有SiO2的微细悬硅酸胶及NaOH（或KOH或NH4OH）组成，分为粗抛浆和精抛浆。 　　清洗：在单晶硅片

1985年问世，1986年V型槽技术又被应用到该电池上，效率突破20％。V型槽对电他的贡献是：减少电池表面反射；垂直光线在V型槽表面折射后以41”角进入硅片，使光生载流子更接近发射结，提高了收集效率，对低
采用吸杂、钝化、背场等技术。 近年来吸杂工艺再度受到重视，包括三氯氧磷吸杂及铝吸杂工艺。吸杂工艺也在微电子器件工艺中得到应用，可见其对纯度达到一定水平的单晶硅硅片也有作用，但其所用的条件未必

太阳能电池及组件制造装备 用于制造太阳能电池及组件，包括：太阳级硅投炉料制造成套装备，多晶硅铸锭炉，多线切割机，剖锭机，硅片抛光设备，硅片清洗机，扩散设备

、半导体清洗设备、半导体测试设备、半导体制冷设备、半导体氧化设备等；3、半导体分立器件产品与应用技术等；4、半导体光电器件；5、IC产品与应用技术、IC测试方法与测试仪器、IC设计与设计工具、IC
2007中国（北京）国际半导体工业技术与设备展览会时间：2007年8月8—10日 地点：北京·中国国际展览中心 支持单位：中华人民共和国商务部　　　　　中华人民共和国科学技术