硅片制绒

清洗是 HIT 电池制作的首道工序。制绒清洗主要是利用强腐蚀性的化学制剂对硅片进行清洗和表面结构化，从而在表面制得金字塔状的突起。HIT 电池清洗制绒具体流程包括：预清洗抛光制绒进行若干表面清洁步骤

达到24.2%。王继磊还补充道：目前我们通过优化硅片、制绒、清洗、金属化等工艺流程，使产品效率和良率均得到稳步提高;而叠加166硅片、MBB、半片技术的HJT新产品，双面率高达93%，双面综合功率达到

清洗制绒设备约 13.5-18 亿元;非晶硅沉积设备约 72-96 亿元;TCO 镀膜设备约 49.5-66 亿元;丝印烧结设备约 31.5-42 亿元;其他辅助设备约 12.5-18 亿元。各环节
的技术生态仍有待建立。电池技术从传统的铝背场过 渡到 PERC，尽管技术路径发生了变化，但电池本身的技术生态，无论是上游的硅片端，还 是下游的组件端，均没有出现显著的改变。然而，异质结作为全新一代的

(透明氧化物导电薄膜)沉积设备，单GW投资额为2.75亿元。而从制绒和印刷来看，单台设备的价值量与PERC的设备价值量接近，其中丝网印刷略高。 HJT设备市场空间大。HJT设备市场空间合计达333亿元
58.3亿元，制绒设备市场空间为25亿元。 HJT电池设备以国外为主，国产企业加速国产化。HJT电池的生产流程包括制绒、非晶硅薄膜沉积、TCO(透明氧化物导电薄膜)沉积、丝网印刷四步。对各个环节的

开槽线宽及开槽线型，探究不同开槽形貌条件下的电池片性能。 3.3实验工艺流程 1. 原硅片经过成熟的常规工艺制绒、扩散、刻蚀及氧化后;在硅片背表面生长一层厚度约5～8nm的Al2O3; 2. 本

与丝网印刷设备，且已具备提供 HJT 整线解决方案的能力;捷佳伟创已基本完成清洗制绒、RPD 镀膜、丝网印刷等设备的研发并进入工艺验证阶段。 HJT 电池降本路径明确：根据前期报告的测算
电池本身的提效可提升电池的成本空间，而硅成本则有望受益于后续 N 型硅片的持续减薄。 预计在 HJT 电池成本进入临界范围的过程中，产业化脚步即有望逐步加快，成本进入临界范围后，HJT 电池对

与丝网印刷设备，且已具备提供 HJT 整线解决方案的能力;捷佳伟创已基本完成清洗制绒、RPD 镀膜、丝网印刷等设备的研发并进入工艺验证阶段。 HJT 电池降本路径明确：根据前期报告的测算
HJT 电池本身的提效可提升电池的成本空间，而硅成本则有望受益于后续 N 型硅片的持续减薄。 预计在 HJT 电池成本进入临界范围的过程中，产业化脚步即有望逐步加快，成本进入临界范围后，HJT 电池对

如下： 01 制绒清洗机 ： 电池正反面制绒 02 等离子体增强化学气相(PECVD) 沉积正面本征非晶硅薄膜( i-a-Si:H)和 n型非晶硅薄膜( n-a-Si:H)， 沉积反面沉积

的透明氧化物导电薄膜(TCO)的HELiA PVD 设备来说，藉由四个主要设备来完成八个工艺步骤，使得工艺流程极大地简化，生产场地占地面积大大缩小，其工艺步骤如下： 01、制绒清洗机 ： 电池
正反面制绒 02、等离子体增强化学气相(PECVD) 沉积正面本征非晶硅薄膜( i-a-Si:H)和 n型非晶硅薄膜( n-a-Si:H)， 沉积反面沉积本征非晶硅膜( i-a-Si:H )和p型

如下： 01、制绒清洗机 ： 电池正反面制绒 02、等离子体增强化学气相(PECVD) 沉积正面本征非晶硅薄膜( i-a-Si:H)和 n型非晶硅薄膜( n-a-Si:H)， 沉积反面沉积本征