硅烷

中。 中间的非晶硅薄膜，厚度只有280纳米～360纳米。主要用氢气和硅烷制成，两种气体通过特殊的化学气相处理，变成可产生电离子的固态薄膜。经过多种混合气体渗入形成晶态发生改变的新型的非晶硅薄膜材料，此材料

和金属化合物，而今还对除碳化物（如二甲基氯硅烷）普遍采用了加压精馏工艺,以提高产量和节约能耗。还原沉积之硅棒直径每小时增长量由过去的0.35～0.5毫米增加到现在的1～2毫米。12对棒还原炉炉产量

价格较为低迷的情况下，副产物的综合循环利用很大程度地降低了企业的生产成本。吕锦标紧接着解释。目前我国多晶硅的生产和提纯技术基本采用改良的西门子法工艺，该工艺历经五十多年的发展，可以开发出硅烷法等生产成本

价格较为低迷的情况下，副产物的综合循环利用很大程度地降低了企业的生产成本。”吕锦标紧接着解释。　　目前我国多晶硅的生产和提纯技术基本采用改良的西门子法工艺，该工艺历经五十多年的发展，可以开发出硅烷法等

亨硅烷气、申安照明、奥福精细陶瓷、宇影光学等规模以上企业25家，产品包括太阳能产业核心原料气、太阳能集热板、太阳能聚光光伏菲涅尔透镜、LED照明灯具、镀膜玻璃、碳氢制冷剂等30余个品种。给力新能源公司

经济型的多晶硅制造方案。三氯氢硅法在安全性、存储运输方面具有一定优势，且在有用沉积比和沉积速率方面最优。经过不断改良之后，电耗的生产成本已经降至接近硅烷法的程度。第一代三氯氢硅法循环利用率不佳。四氯化硅

内部；不仅存在于国家层面，也存在于各投资主体与单个项目中。 　　“在太阳能光伏多晶硅制备技术中，目前就有改良西门子法、新型硅烷法等技术，不同的技术生产1千克多晶硅，耗电相差100多度。一项投资数十亿元的项目

缺陷形成和不断提高设备生产能力来提高可制造性。Voltaix 是锗烷、乙硼烷、丙硅烷和三甲基硼等众多电子产品的世界领导厂商。该公司采用了内部开发的专有合成、提纯和包装技术，同时还为自己的生产车间亲自

多晶硅制备技术中，目前就有改良西门子法、新型硅烷法等技术，不同的技术生产1千克多晶硅，耗电相差100多度。一项投资数十亿元的项目可能很快过时，盲目投资蕴涵着巨大的风险。国务院发展研究中心专家冯飞就曾在

，用以建造新的生产工厂，包括薄膜厂商Hevel Solar以及生产多晶硅和单硅烷的Nitol集团。 几个星期前，俄罗斯北高加索地区计划联合地区政府与私人企业建造属于自己的硅谷。该项目的成本约为10亿