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六、应用 随着器件制造工艺从LSI发展到VLSI,半导体工业对硅材料的要求变得越”来越严格。目前，器件尺寸已大大减小。最
五.、工艺 MCZ法有许多优越性: 1.磁致粘滞性控制了流体的运动，大大地减
三、沿革 MCZ的历史与沿革NTD硅的历史有相似之处。 很早以前就知道磁场
一、引言 近年来，半导体硅工艺中，出现了一种令人注目的新工艺—外加磁场直拉
