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0.955V(对SCE),脉冲时间1s。沉积2h后,衬底上呈现100nm~110nm原黄色CdS膜。 CdTe溶液是用分析纯C北和高纯水制成2.5MC2+溶液,并在10mV电位下电纯化12h,加入光源将石墨样品托架加热到1200℃。试验所用衬底为重掺杂磷非活性单晶硅片或非硅质底材。在1030℃下薄膜生长速率为10nm/s,研究了薄膜生长特性,薄膜的微结构,并研制了多晶硅薄膜电池,电池结构为金属