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、清洗剂等产品。产品研发背景来看，主要有LPCVD、PECVD和PVD三种，从研发机理来看，分成了POLY、PSG、BPSG的腐蚀速率，我们做到了在增强POLY腐蚀速率同时，降低PSG和BPSG的
推出铜栅线异质结电池(C-HJT)技术。其中，国电投新能源公司的铜电镀栅线制备工艺，在PVD后增加镀铜腔体即可完成种子层制备，无需增加额外PVD设备。超窄铜栅线电镀工艺实现了20微米线宽的量产工艺，比银

研发主任彭宜昌博士PVD在异质结中的应用已非常成熟，在钙钛矿方面，主要用于空穴传输层及背电极薄膜的沉积。其特点是靶材利用率高，单次维护间隔时间长，产能大，配合防溅射损伤的措施，最具性价比的设备类型，符合
未来钙钛矿量产的需求。扫描式磁控溅射PVD设备占地面积小，适合实验室及中试线产品开发;可兼容不同种类靶材、低、高温及溅射损伤工艺;同时，采用模块化设计，也具有量产设备解决方案。目前来看，在钙钛矿生产

就是PVD加涂布结晶加激光，这个路线其实没有大的调整。到目前为止，我们看到能够把组件完整的做出来的。就是依据这条路，我们并没有看到通过别的路径能够把组件也做出来。别的路径的可能更多的还是在早期的实验
别的厚度。这对于激光划线的设备的精度提出了更高的要求。除此之外，还有像PVD镀膜，现在我们能看到有一些实验室也在引入ALD的沉积，这些都有它各自的难点。钙钛矿目前还是制造商先提要求，设备供应商来完成见智研究

形成薄膜，共有三种实现方式，分别为蒸发镀膜、磁控溅射镀膜(PVD)、等离子源镀膜(RPD)。在钙钛矿层制备中，主流使用方法为蒸发镀膜，简称蒸镀法。蒸镀法：将镀膜材料(靶材)放置于腔室中，利用分子泵抽低腔
室气压，真空度达到要求后，通过加热方式使靶材固体气化，并在基底上形核生长成膜。PVD法：在真空条件下，利用经过加速的高能粒子轰击靶材表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上

主要供应商为上海德沪和日本东丽等。两台PVD磁控溅射设备：空穴传输层、背电极各一台，价值量合计2000万元，价值量占比~17%;目前市场主要供应商为京山轻机、德国莱宝、梅耶博格、湖南红太阳等。一台RPD反应
有PVD/蒸镀两种选择;空穴层采用PVD较为主流;电子层采用PVD/RPD/热蒸镀方案均有，核心诉求是减少电子层制备对于基底钙钛矿层的损伤。研讨会预告光伏电池技术专题研讨会(钙钛矿专场)将于3月15日在广州 · 中心皇冠假日酒店盛大召开!扫描下方二维码参会