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十余项单机设备中标通知书及重复订单。这标志着公司稳步推进的HJT电池全路线全工序装备在技术和工艺上持续获得突破，广泛获得市场认可。一直以来，捷佳伟创在HJT装备研发与推广中，稳健秉承 “汇集全球
技术，服务龙头企业” 的战略，积极深入研发PECVD/Cat-CVD/RPD/PAR/PVD、印刷/铜电镀/新型组件焊接等先进技术和装备，积极推进HJT的产业化发展，为光伏新能源行业贡献力量。从HJT

研发主任彭宜昌博士PVD在异质结中的应用已非常成熟，在钙钛矿方面，主要用于空穴传输层及背电极薄膜的沉积。其特点是靶材利用率高，单次维护间隔时间长，产能大，配合防溅射损伤的措施，最具性价比的设备类型，符合
未来钙钛矿量产的需求。扫描式磁控溅射PVD设备占地面积小，适合实验室及中试线产品开发;可兼容不同种类靶材、低、高温及溅射损伤工艺;同时，采用模块化设计，也具有量产设备解决方案。目前来看，在钙钛矿生产

别的厚度。这对于激光划线的设备的精度提出了更高的要求。除此之外，还有像PVD镀膜，现在我们能看到有一些实验室也在引入ALD的沉积，这些都有它各自的难点。钙钛矿目前还是制造商先提要求，设备供应商来完成见智研究

制备工艺包括溶液涂布法和真空镀膜法。溶液涂布法成本低、设备兼容度高、原料利用率高，但大面积均匀性不易控制、对基底平整度要求高。真空镀膜法均匀性控制好、对基底平整度要求低，但原料利用率较低、成本高、生产
速度慢、设备兼容度低。溶液涂布法和真空镀膜法对比资料来源：《大面积钙钛矿薄膜涂布技术与钙钛矿太阳能模组研究》，公司公告，公司官网，中金公司研究部溶液涂布溶液涂布法原料利用率较高，设备成本相对较低，但均匀

主要供应商为上海德沪和日本东丽等。两台PVD磁控溅射设备：空穴传输层、背电极各一台，价值量合计2000万元，价值量占比~17%;目前市场主要供应商为京山轻机、德国莱宝、梅耶博格、湖南红太阳等。一台RPD反应
、组件封装两大环节。这两大环节当前相关生产制造公司以非上市公司为主，而相关生产设备和制造辅材则有上市公司活跃其中，具体来看：设备：钙钛矿层为主要核心工序，激光设备为主要确定工序根据中金研究的产业链调研

创业的时候，整个中国还没有自动化的土壤，我们的设备卖给日本人、韩国人，我们国家在工业革命的浪潮当中是从2000年左右才开始起步，最开始的五年，我们在中国没有自动化的土壤，那个时候还是人口红利的时候
研拓，自动化装备往标准装备、低壁垒的装备往高壁垒的装备，微米精度往纳米精度研拓，往更多的工艺装机，比如说光伏行业，HJT四款关键核心的PECVD、PVD等真空含量的装备，这些对利元亨来讲都是不断拓展

“光能杯”跨年分享会分论坛——创新分享会，并作主题为《N型TOPCon电池——打开未来光伏之门》的分享。路忠林谈到，n型TOPCon和传统PERC电池结构类似，能够最大化利用现有的电池和组件设备。同时，较高
的双面率、溢价能力和组件功率，使其在终端的盈利能力甚至优于PERC。与其他n型电池产品相比，TOPCon设备成熟度最高，工艺相对简单，设备单价便宜，利于大规模推广。随着n型TOPCon规划产能的不断

1.5%-2%。二是产业生态的成熟。三是寿命至少和上一代持平;最后是LCOE、材料、设备、工艺都要好。技术没有终极技术，我不太赞同投资人说的“终极技术”。技术进步是无穷无尽的，没有终极技术，一定是技术迭代
跟不上，这样成本降不下来。三是寿命，这三个条件刚才沈教授已经谈到了，寿命应该和上一代持平，比如说晶硅能是25年、30年。最后就是LCOE就是材料、设备、工艺都要好。我们回顾了第一次技术迭代，我们再看

是指在基底上沉积特定材料形成薄膜，使之具有光学、电学等方面的特殊性能。按照工艺原理不同，可分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）设备。在传统工艺中，由于存在厚度控制和
HJT的名义产能有望超过70GW和30GW，至2023年末将分别达到130GW和60GW。受益于N型电池技术产业化进程不断加速，电池设备环节也逐步进入高景气周期。尤其是TOPCon，凭借经济性优势有望